[发明专利]一种石墨卡件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010358057.4 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN111517827A 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 高志明;高承燕;鲍守珍;甘易武;郑连基 申请(专利权)人: 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
主分类号: C04B41/87 分类号: C04B41/87;C01B33/021
代理公司: 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 代理人: 杜朗宇
地址: 810007 青海*** 国省代码: 青海;63
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种石墨卡件,该石墨卡件通过在石墨座与石墨帽连接后的外侧裸露部分喷涂陶瓷材料,将裸露的石墨包裹起来,减少裸露面积,尽可能隔绝与炉子内部反应物料的接触,从而减少碳含量,提高多晶硅品质。所述石墨卡件包括石墨卡瓣、石墨帽和石墨底座;其中,石墨底座轴心上设有石墨卡瓣,石墨帽穿过石墨卡瓣安装在石墨底座上,硅芯穿过由石墨卡瓣围成的空腔,硅芯通过石墨帽与石墨底座的连接螺纹固定在石墨底座上,所述组装好后的石墨底座与石墨帽外壁上、安装在所述石墨底座上的电极皆喷涂有陶瓷材质的喷涂层。本发明还提供了上述石墨卡件的制备方法。

技术领域

本发明涉及多晶硅生产领域,尤其是一种石墨卡件及其制备方法。

背景技术

近年来,我国多晶硅行业高速发展,实现了规模化、产业化、高质量的生产,建设清洁低碳、安全高效的现代光伏体系是一致的目标。硅是储量最大、应用最广的半导体材料,它的高质量发展和应用标志着一个国家的电子工业水平。多晶硅是用于生产半导体和太阳能光伏产品的主要中间原料,目前用于生产多晶硅的主要有改良西门子法、硅烷法、流化床等方法。目前还原炉内使用比较多的石墨组件,例如石墨座,石墨帽和石墨卡瓣等等,在高温运行环境下,裸露在还原炉内的石墨件与炉内物料气体接触,会带入一部分碳杂质进入系统,引起碳含量升高,从而影响多晶硅品质。

发明内容

针对上述不足,本发明旨在提供一种石墨卡件,该石墨卡件通过在石墨座与石墨帽连接后的外侧裸露部分喷涂陶瓷材料,将裸露的石墨包裹起来,减少裸露面积,尽可能隔绝与炉子内部反应物料的接触,从而减少碳含量,提高多晶硅品质。

为实现上述技术目的,本发明提供的第一技术方案是这样的:一种石墨卡件,包括石墨卡瓣3、石墨帽4和石墨底座2;其中,石墨底座2轴心上设有石墨卡瓣3,石墨帽4穿过石墨卡瓣3安装在石墨底座2上,硅芯5穿过由石墨卡瓣3围成的空腔,硅芯5通过石墨帽4与石墨底座2的连接螺纹固定在石墨底座2上,所述组装好后的石墨底座2与石墨帽4外壁上、安装在所述石墨底座2上的电极1皆喷涂有陶瓷材质的喷涂层6。

所述陶瓷材料为A12O3、ZrO2、Si3N4和/或SiC。

本发明提供了上述石墨卡件的制备方法,包括如下步骤:

1)将电极1、石墨底座2、石墨卡瓣3、石墨帽4、硅芯5分别利用煅烧的方法进行表面预热处理;

2)将经预热处理后的各组件进行连接,并在组装好后的石墨底座2与石墨帽4外壁上、安装在所述石墨底座2上的电极1上皆喷涂陶瓷材质的喷涂层6。

步骤1)所述预热温度为1000-1200℃,该预热步骤旨在为喷涂结合质量提供热场。

步骤2)所述喷涂方式为等离子喷涂技术、高温喷涂技术。

步骤2)所述喷涂压力为1-5MPa;喷涂温度为1000-2000℃;喷涂强度为80-100HRA;所述喷涂压力是对喷涂厚度的控制,低于本发明所述压力时,附着力会受到一定影响。

步骤2)所述陶瓷材料的喷涂厚度为0.3-0.8mm。

步骤2)所述陶瓷材料为A12O3、ZrO2、Si3N4和/或SiC。

本发明与现有技术相比具有以下优点和有益效果:

1.通过在石墨座与石墨帽连接后的外侧裸露部分喷涂陶瓷材料,将裸露的石墨包裹起来,减少裸露面积,尽可能隔绝与炉子内部反应物料的接触,从而减少碳含量,提高多晶硅品质。

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