[发明专利]一种粗品六氟化硫的纯化方法

说明书

本发明提供一种粗品六氟化硫的纯化方法，包括以下步骤：裂解除杂；水洗除杂；碱洗除杂；低压吸附；高压吸附；精馏除杂。本发明通过设置一至六级水洗塔，经过多次水洗有效去除粗品六氟化硫中的氟气、低硫氟化物、亚硫酰氟化物，提高六氟化硫的纯度，同时对水洗过程中的副产物氢氟酸进行回收，减少废水的产生，实现变废为宝；本发明通过设置一至六级碱洗塔，经过多次碱洗有效去除六氟化硫中的HF、CO₂、SO₂气体，提高其纯度，碱洗塔产生的废液通过在碱液收集槽中利用生石灰处理后重复利用，避免废液的产生，降低污染，节约成本。

技术领域

本发明涉及化工生产技术领域，具体是涉及一种粗品六氟化硫的纯化方法。

背景技术

六氟化硫在常温常压下为无色、无臭、无毒、无腐蚀性、不燃、不爆炸的气体，分子量146.06，密度6.139g/L，约为空气的5倍。其化学成分稳定，是已知化学稳定性最好的气态物质之一，其惰性与氮气相似。它具有极好的热稳定性，纯态下即使在500℃以上高温也不分解。六氟化硫具有卓越的电绝缘性和灭弧特性，常压下其绝缘能力为空气的2.5倍以上，其灭弧能力相当于相同条件下空气的100倍。另外，在相同的条件和缓冲压力下，SF₆的晕电压为气体的2倍。

由于六氟化硫具有卓越的电绝缘性、灭弧特性等化学性质，它被广泛用于电气设备的断路器、组合器、变压器、大容器电缆、避雷器、x光机、离子加速器、示踪分析和有色冶炼等方面。六氟化硫也可以在光纤制备中用作生产掺氟玻璃的氟源，在制造低损耗优质单模光纤中用作隔离层的搀杂剂，还可用作氮准分子激光器的渗加气体。高纯六氟化硫在半导体制造工业中，也可用作等离子蚀刻剂。

目前，六氟化硫的制备普遍采用氟气与硫磺反应，反应生成的粗六氟化硫气体通过不断纯化获得符合工业生产要求的产品。公开号为CN103848402A的中国发明专利申请公开了一种六氟化硫制备方法，该制备方法包括以下步骤：使氟气与气态硫磺反应生成粗六氟化硫气体，将粗六氟化硫气体进行热解、洗涤、除水、除酸及精馏处理，得到六氟化硫产品，对产品进行检测，对检测不合格的六氟化硫产品进行相关处理直到得到合格产品，将精馏处理分离出的尾气进行回收。本发明方法采用电解法制备的氟气和高品质硫磺作为原料进行反应，产生的粗六氟化硫气体杂质少，节省了纯化工序，减少了能耗。该工艺存在如下不足：水洗和碱洗工艺中会产生大量的废水，对这些废水如何处理没有交待清楚，容易造成环境污染。

发明内容

本发明的目的是提供一种粗品六氟化硫的制备方法。