[发明专利]一种掩模台、曝光装置和光刻设备

权利要求书

1.一种掩模台，其特征在于，包括：

承版台，包括透光区和围绕所述透光区的非透光区；

至少三个支撑固定单元，设置于所述承版台的非透光区，且各所述支撑固定单元均匀分布于所述透光区的周围；所述支撑固定单元用于支撑固定掩模版；

至少三个形变补偿单元，设置于所述承版台的非透光区，且位于所述支撑固定单元靠近所述透光区的一侧；各所述形变补偿单元均匀分布于所述透光区的周围；所述形变补偿单元用于提供与所述掩模版的重力方向相反的形变支撑力；

其中，所述承版台上设置有掩模版放置槽；所述非透光区包括第一非透光区和围绕所述第一非透光区的第二非透光区，所述第一非透光区围绕所述透光区，且所述第一非透光区位于所述掩模版放置槽的槽底区域内，所述第二非透光区位于所述掩模版放置槽的侧壁区域内；

所述支撑固定单元包括柔性固定部件和硬支撑部件；所述柔性固定部件的一端固定于所述第二非透光区，所述柔性固定部件的第二端延伸至所述第一非透光区；所述硬支撑部件固定于所述第一非透光区，且所述硬支撑部件与所述柔性固定部件的第二端相对设置。

2.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述透光区位于所述掩模版放置槽的槽底区域内。

3.根据权利要求2所述的掩模台，其特征在于，所述硬支撑部件用于提供与所述掩模版的重力方向相反的支撑力；所述柔性固定部件用于提供与所述掩模版的重力方向相同的压力。

4.根据权利要求3所述的掩模台，其特征在于，所述柔性固定部件包括簧片；

所述簧片包括固定端和活动端；所述簧片的固定端通过至少一个紧固件固定于所述承版台的第一非透光区；所述簧片的活动端包括弯折结构，所述弯折结构位于所述第二非透光区，且所述弯折结构的顶点与所述硬支撑部件相对设置。

5.根据权利要求3所述的掩模台，其特征在于，所述掩模版放置槽的槽底设置有圆锥孔；所述硬支撑部件的一端与所述圆锥孔卡合。

6.根据权利要求2所述的掩模台，其特征在于，所述形变补偿单元包括螺旋弹簧；

所述掩模版放置槽的槽底还设置有平底孔，所述螺旋弹簧固定于所述平底孔内。

7.根据权利要求1所述的掩模台，其特征在于，所述透光区为圆形透光通孔；所述形变补偿单元的数量为n，其中，n＝6。

8.根据权利要求1～7任一项所述的掩模台，其特征在于，还包括至少四个位置调节单元和至少四个位置固定单元；

各所述位置调节单元对称设置于所述承版台的非透光区；所述位置调节单元用于调节所述掩模版在水平方向的位置；

各所述位置固定单元对称设置于所述承版台的非透光区；所述位置固定单元用于固定所述掩模版在水平方向的位置。

9.根据权利要求8所述的掩模台，其特征在于，所述承版台设置有掩模版放置槽；所述掩模版放置槽位于所述承版台的中心区域；所述透光区位于所述掩模版放置槽的槽底的中心区域；

所述承版台的侧面设置有贯穿所述掩模版放置槽的侧壁的顶丝孔和注胶孔；

所述位置调节单元包括顶丝，所述顶丝设置于所述顶丝孔内；

所述位置固定单元包括胶体，所述胶体位于所述注胶孔内。

10.根据权利要求8所述的掩模台，其特征在于，所述位置调节单元的数量为m；其中，m≥8；所述位置固定单元的数量为x；其中x≥8

所述承版台包括四个侧边；所述承版台的每一侧边设置有至少两个所述位置调节单元和至少两个所述位置固定单元。

11.一种曝光装置，其特征在于，包括权利要求1～10任一项所述的掩模台。

12.一种光刻设备，其特征在于，包括权利要求11所述的曝光装置。