[发明专利]铝材的除垢处理剂在审
| 申请号： | 202010380705.6 | 申请日： | 2020-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN111910190A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 原健二;森口朋;平井建太郎;奥村元 | 申请（专利权）人： | 奥野制药工业株式会社 |
| 主分类号： | C23G1/12 | 分类号： | C23G1/12 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;吕秀平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 除垢 处理 | ||
【权利要求书】：
1.一种铝材的除垢处理剂，其特征在于，含有：
(A)硫酸；以及
(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。
2.如权利要求1所述的除垢处理剂，其特征在于：
实质上不含硝酸。
3.如权利要求1或2所述的除垢处理剂，其特征在于：
所述水溶性高分子包含聚亚烷基二醇或聚氧化烯烷基醚。
4.如权利要求1～3中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：
所述水溶性高分子的平均分子量为200～20000。
5.如权利要求1～4中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：
所述两性金属包含选自锌、铝、锡和铅中的至少1种。
6.如权利要求1～5中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：
所述两性金属包含选自锌和铝中的至少1种。
7.如权利要求1～6中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：
还含有镁。
8.如权利要求1～7中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：
含有所述水溶性高分子和所述两性金属两者。
9.如权利要求1～8中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：
用于除去通过化学法表面处理产生的污垢。
10.一种铝材的除垢处理剂用添加剂，其特征在于：
含有选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。
11.一种铝材的除垢处理方法，其特征在于：
包括：利用权利要求1～9中任一项所述的除垢处理剂对表面具有污垢的铝材进行处理的工序。
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