[发明专利]铝材的除垢处理剂在审
申请号: | 202010380705.6 | 申请日: | 2020-05-08 |
公开(公告)号: | CN111910190A | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 原健二;森口朋;平井建太郎;奥村元 | 申请(专利权)人: | 奥野制药工业株式会社 |
主分类号: | C23G1/12 | 分类号: | C23G1/12 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;吕秀平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 除垢 处理 | ||
本发明的课题在于:提供在不使用硝酸或硝酸的使用量明显少的除垢处理中,能够抑制孔蚀的发生的技术。解决方案在于:提供一种铝材的除垢处理剂,该除垢处理剂含有:(A)硫酸;以及(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。
技术领域
本发明涉及铝材的除垢处理剂等。
背景技术
在铝材的表面处理中,有时在表面生成不溶性残渣(污垢(smut))。例如在对铝进行阳极氧化处理或镀敷处理、涂装等之前,为了使表面清洁化而进行碱性蚀刻处理等,但通过该处理,会在铝材的表面生成白色或灰色的污垢。因此,进行除去污垢的处理(除垢处理)。
例如,在专利文献1中,报道了通过在硝酸等无机酸中添加钒化合物,能够在较短时间除去污垢的除垢处理剂。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平6-057461号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的发明人着眼于近年来的环境意识的提高、环境标准的严格化等,进行了不使用会导致环境污染的硝酸的除垢处理剂的开发。然而已知在除垢处理时不使用硝酸的情况下,如果在氯化物离子(50mg/L)的存在下进行除垢处理,则会产生大量的孔蚀(铝材表面的无数的微小孔)。在作为用于制备除垢处理水溶液的水主要使用的自来水中不可避免地含有氯化物离子,另外,在除垢处理中作为无机酸使用的硫酸中也会作为杂质含有氯化物离子,因此,上述问题是不使用硝酸或者硝酸的使用量明显少的除垢处理(无硝酸除垢处理)中一般性的课题。
因此,本发明的课题在于:提供在不使用硝酸或者硝酸的使用量明显少的除垢处理中能够抑制孔蚀的发生的技术。
用于解决课题的方案
本发明的发明人鉴于上述课题进行了深入研究,结果发现如果是含有(A)硫酸以及(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种的铝材的除垢处理剂,就能够抑制孔蚀的发生并且能够除去污垢。基于该发现进一步进行研究的结果,完成了本发明。即,本发明包括下述方式。
项1.一种铝材的除垢处理剂,其含有:(A)硫酸;以及(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。
项2.如项1所述的除垢处理剂,其实质上不含硝酸。
项3.如项1或2所述的除垢处理剂,上述水溶性高分子包含聚亚烷基二醇或聚氧化烯烷基醚。
项4.如项1~3中任一项所述的除垢处理剂,其中,上述水溶性高分子的平均分子量为200~20000。
项5.如项1~4中任一项所述的除垢处理剂,其中,上述两性金属包含选自锌、铝、锡和铅中的至少1种。
项6.如项1~5中任一项所述的除垢处理剂,其中,上述两性金属包含选自锌和铝中的至少1种。
项7.如项1~6中任一项所述的除垢处理剂,其还含有镁。
项8.如项1~7中任一项所述的除垢处理剂,其含有上述水溶性高分子和上述两性金属两者。
项9.如项1~8中任一项所述的除垢处理剂,其用于除去通过化学法表面处理产生的污垢。
项10.一种铝材的除垢处理剂用添加剂,其含有选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。
项11.一种铝材的除垢处理方法,其包括:利用项1~9中任一项所述的除垢处理剂对表面具有污垢的铝材进行处理的工序。
发明的效果
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