[发明专利]压模复制设备和生产该复制设备的保持装置及压模的方法

权利要求书

1.一种生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备(10)，所述压模复制设备包括平台(14)、能够定位在所述平台(14)上的盖(12)以及用于压模载体(28)的保持装置(32)，

其中，所述保持装置(32)设置在所述盖(12)上或所述平台(14)上，并且包括载体(33以及位于所述载体(33)上用于保持所述压模载体(28)的微米结构化真空表面(34)。

2.根据权利要求1所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微米结构化真空表面(34)的单独结构具有不大于50μm的特征尺寸。

3.根据权利要求1或2所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微米结构化真空表面(34)包括统计结构。

4.根据前述权利要求中任一项所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微米结构化真空表面(34)包括在所述保持装置(32)的表面上延伸的微真空通道(46)。

5.根据权利要求4所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微真空通道(46)的深度(t)和/或宽度(b)各都小于50μm，特别地小于10μm。

6.根据权利要求4或5所述的压模复制设备(10)，其特征在于，在俯视图中看所述微真空通道(46)在所述保持装置(32)上径向延行。

7.根据权利要求4或5所述的压模复制设备(10)，其特征在于，在俯视图中看所述微真空通道(46)在所述保持装置(32)上以格栅形状延行。

8.根据权利要求4或6所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微真空通道(46)以规则间隔设置，其中，在每两个微真空通道(46)之间设置有连接部(50)，特别是其中，作为所述微真空通道(46)之一和相邻连接部(50)的宽度(b)的微米结构化真空表面(34)的节距(p)小于或等于50μm，优选地小于或等于10μm。

9.根据权利要求7所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微真空通道(46)的宽度(b)是所述节距(p)的最大90％。

10.根据权利要求4和8所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述微真空通道(46)的深度(t)不大于所述微真空通道(46)的宽度(b)的十倍。

11.根据前述权利要求中任一项所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述保持装置(32)包括可见真空通道(46)，其中所述真空表面(34)，特别是所述微真空通道(46)流体连接到所述真空通道(40)，特别地其中，所述真空通道(40)完全围绕所述微米结构化真空表面(43)。

12.根据前述权利要求中任一项所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述压模复制设备(10)包括用于调节所述盖(12)和所述平台(14)之间的间距的间距调节设备(18)以及用于测量所述盖(12)和所述平台(14)之间的间距的测量设备(24)，其中，所述间距调节设备(18)和所述测量设备(24)彼此分开地设置。

13.根据前述权利要求中任一项所述的压模复制设备(10)，其特征在于，三个支撑区域(22a、22b、22c)设置在所述平台(14)上以用于支撑所述盖(12)，其中，所述支撑区域中的一个(22a)提供了五个自由度，所述支撑区域中的另一个(22b)提供了四个自由度，和/或再一个支撑区域(22c)提供了三个自由度。

14.根据前述权利要求中任一项所述的压模复制设备(10)，其特征在于，所述保持装置(32)，特别是所述载体(33)由玻璃或石英制成，其中，所述保持装置(32)对光、特别是UV光，特别是具有250nm至450nm波长的光是透明的。