[发明专利]压模复制设备和生产该复制设备的保持装置及压模的方法

说明书

一种生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备(10)，其包括平台(14)、可定位在平台(14)上的盖(12)以及用于压模载体(28)的保持装置(32)，其中，保持装置(32)设置在盖(12)或平台(14)上并且包括载体(33)以及在载体(33)上的用于保持压模载体(28)的微米结构化真空表面(34)。此外，指定了一种生产用于压模复制设备(10)的保持装置(32)的方法以及一种用于生产压模的方法。

技术领域

本发明涉及一种生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备和一种用于生产用于复制设备的保持装置的方法以及一种用于生产用于复制设备的压模的方法。

背景技术

在用于复制设备的压模的生产中，液体或粘性压模材料通常被填充到压模复制设备中，借助于模制部件而赋予期望的形状，并被固化。

固化可以通过例如加热压模复制设备来实现。为此，加热的水被引导穿过压模复制设备的盖中的通道。压模必须保持在压模复制设备中，直到其完全固化，这可能花费几天到一周。因此，有必要同时使用多个压模复制设备以便以足够的量来生产压模。因此，会带来高的购置成本并且还增加了空间要求。

然而，对于新压模的需求相对较高，因为用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模具有相对小的使用寿命，并且仅可以利用它们执行大约十到一百个冲压过程。这就是为什么希望减少压模生产中的循环时间。

固化压模的另一种方法是借助于暴露于光，特别是暴露于UV光来进行固化。通过暴露于光比通过加热可以迅速得多地实现固化。然而，在使用这种方法的压模生产的情况下，不能保持期望的质量。

液体压模材料就被放置在压模载体上并在固化期间与其结合。例如，完全固化的压模的压模载体在生产期间借助于真空来至少暂时地被保持。为此目的，真空通道从压模载体处引导，并且至少部分地沿着压模载体的表面延行。

问题是光在真空通道上被散射和反射与在光滑的抛光表面上不同。这不利地影响压模材料中的照射的均匀性，并且导致过程差异。在本内容中，这被称为阴影效应(shadoweffect)。

发明内容

因此，本发明的一个目的是提供一种能够在短时间内生产具有一致的高质量的压模的压模复制设备。此外，本发明的目的是指定一种生产用于压模复制设备的保持装置的方法以及一种用于生产压模的方法。

该目的根据本发明借助于生产用于生产微米结构化和/或纳米结构化部件的压模的压模复制设备来解决，所述压模复制设备包括平台、可放置在该平台上的盖以及用于压模载体的保持装置，其中，保持装置设置在盖上或平台上并且包括载体以及载体上的用于保持压模载体的微米结构化真空表面。

在本发明的范围内，术语“微米结构化”被理解为意味着结构的尺寸或不均匀度在微米范围内或以下。

包括微米结构化真空表面的保持器的优点是，真空结构如此小以至于它们在压模的生产中不被复制并且因此没有阴影效应。

根据本发明的压模复制设备因此能够通过在不损害所产生的压模的质量的情况下暴露于光而使压模固化。压模的生产中的过程时间可以通过利用暴露于光而特别短暂，这有利地影响了压模的生产成本。

压模复制设备的盖优选地至少部分地对光(特别是UV光)是透明的，以便在压模复制设备中允许压模暴露于光。替代地或附加地，平台在一些区域中也可以是至少透明的。

包括微米结构化真空表面的载体还可以集成到盖中，特别是与盖一起形成为单件。换句话说，真空表面可以直接集成到盖中。

特别地，将待生产的压模的形式表示为阴性的模制部件可保持在盖上或平台上，并且保持装置被设置在盖和平台中的另一个上。如果盖位于平台上，那么微米结构化真空表面优选地面向模制部件。在该状态下，例如，模具被形成，压模可以在模具中被模制。