[发明专利]一种半导体工艺设备

说明书

本发明提供一种半导体工艺设备，包括工艺腔室、承载盘、支撑柱、升降组件和调节组件，所述承载盘设置在所述工艺腔室内，所述支撑柱与所述承载盘相连并支撑所述承载盘，所述升降组件通过所述调节组件与所述支撑柱相连，所述升降组件能够带动所述调节组件升降。所述调节组件具有安装表面，所述支撑柱设置在所述安装表面上，所述安装表面与参考面之间的角度能够被调节，并且所述调节组件的安装表面能够带动所述支撑柱沿参考面运动，以调节所述承载盘的位置。在本发明中，调节组件直接通过支撑柱连接承载盘，升降组件可以与工艺腔室固定连接，从而提高了承载盘的稳定性，进而提高了设备的生产效率。

技术领域

本发明涉及半导体设备领域，具体地，涉及一种半导体工艺设备。

背景技术

金属有机化合物化学气相沉淀(MOCVD，Metal-organic Chemical VaporDeposition)是一种新型气相外延生长技术，具有选材范围广、外延层厚度小、反应可控性高等多种优点。

现有的MOCVD设备通常包括反应腔室、设置在反应腔室中的承载盘和升降机构，该升降机构通常为导轨、滑块组件，其导轨通过安装板安装在反应腔室底部，其滑块用于驱动承载盘在反应腔室中升降。然而，现有的MOCVD设备通常在使用过程中出现承载盘偏移，导致成膜不均匀的问题，需要多次对承载盘进行调平、调对中，影响生产节奏。

因此，如何提供一种结构稳定的MOCVD设备，成为本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明旨在提供一种半导体工艺设备，该半导体工艺设备的承载盘调节结构稳定，承载盘不容易在运动过程中偏离预定位置。

为实现上述目的，本发明提供一种半导体工艺设备，包括工艺腔室、承载盘和支撑柱，所述承载盘设置在所述工艺腔室内，所述支撑柱与所述承载盘相连并支撑所述承载盘，所述半导体工艺设备还包括升降组件和调节组件，其中，

所述升降组件通过所述调节组件与所述支撑柱相连，所述升降组件能够带动所述调节组件升降以实现所述承载盘的升降；

所述调节组件具有安装表面，所述支撑柱设置在所述安装表面上，所述安装表面与参考面之间的角度能够被调节，并且所述调节组件的安装表面能够带动所述支撑柱沿参考面运动，以调节所述承载盘的位置。

优选地，所述调节组件包括沿竖直方向依次层叠设置的第一调节板、第二调节板和第三调节板，所述第一调节板与所述支撑柱固定连接，所述第三调节板与所述升降组件相连；所述第二调节板可相对于所述第三调节板沿X方向滑动，所述第一调节板可相对于所述第二调节板沿Y方向滑动，所述X方向和所述Y方向均与所述参考面平行，且所述X方向与所述Y方向相交。

优选地，所述第二调节板和所述第三调节板上均设置有多个导向件，所述第一调节板和所述第二调节板上均形成有多个导向通孔，所述第三调节板上的多个导向件一一对应地插入所述第二调节板上的多个导向通孔中，且所述第三调节板上的多个所述导向件均能够在所述第二调节板上的多个导向通孔中沿X方向移动，所述第二调节板上的多个导向件一一对应地插入所述第一调节板上的多个导向通孔中，且所述第二调节板上的多个所述导向件均能够在所述第一调节板上的多个导向通孔中沿Y方向移动。

优选地，所述导向件为螺钉，所述第二调节板和所述第三调节板上均形成有多个导向螺纹孔；

所述第三调节板上设置的多个所述导向件一一对应地穿过所述第二调节板上的多个导向通孔，并一一对应地旋入所述第三调节板上的多个所述导向螺纹孔中，且能够将所述第二调节板固定连接在所述第三调节板上；

所述第二调节板上设置的多个所述导向件一一对应地穿过所述第一调节板上的多个导向通孔，并一一对应地旋入所述第二调节板上的多个所述导向螺纹孔中，且能够将所述第一调节板固定连接在所述第二调节板上。

优选地，所述调节组件还包括多个调节件；