[发明专利]一种防区规划处理方法及装置有效

专利信息
申请号: 202010398740.0 申请日: 2020-05-12
公开(公告)号: CN111551907B 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 何宇翔;方勇军 申请(专利权)人: 浙江大华技术股份有限公司
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40;G01S7/41
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 张秀英
地址: 310051 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 防区 规划 处理 方法 装置
【说明书】:

发明提供了一种防区规划处理方法及装置,其中,该方法包括:接收雷达在预定时间内对监控场景进行探测得到的目标图像;将该目标图像与该监控场景的俯视图进行叠加;在叠加该目标图像的该俯视图中对该雷达进行校正;根据校正后的该雷达所监控的防区在该俯视图中进行防区规划,可以解决相关技术中由于标定的精度低导致绘制的防区与实际场景中想要防御的区域存在位置上的偏差,从而屏蔽区域或者报警区域规划产生偏差,产生误报或漏报的问题,绘制的防区能够更加贴合实际场景中需要屏蔽或者报警的区域,进而在同等条件下拥有更低的误报率和漏报率。

技术领域

本发明涉及教育信息化技术领域,具体而言,涉及一种防区规划处理方法及装置。

背景技术

目前基于毫米波雷达的入侵检测系统中,其防区设置操作如下:

第一步:标定,将实际监控场景俯视图导入雷达上位机,调整上位机中雷达标识点的位置及朝向,使界面中的雷达标识点位置与朝向和实际场景中雷达的位置和朝向保持一致。

第二步:对地图上的特定区域进行防区绘制。

第三步:确认防区属性,屏蔽区或者报警区,对屏蔽区内的目标进行忽视,对报警区的目标针对性报警。

上述的第一步标定中,标定的精确度往往没有那么高,雷达在地图上的位置及朝向的角度与真实场景中总会有些变化,同时,地图比例的准确度也与实际场景有差别,这样的误差会导致绘制的防区与实际场景中想要防御的区域存在位置上的偏差,从而导致屏蔽区域或者报警区域规划产生偏差,最终产生误报或者漏报。

针对相关技术中由于标定的精度低导致绘制的防区与实际场景中想要防御的区域存在位置上的偏差,从而屏蔽区域或者报警区域规划产生偏差,产生误报或漏报的问题,尚未提出解决方案。

发明内容

本发明实施例提供了一种防区规划处理方法及装置,以至少解决相关技术中由于标定的精度低导致绘制的防区与实际场景中想要防御的区域存在位置上的偏差,从而屏蔽区域或者报警区域规划产生偏差,产生误报或漏报的问题。

根据本发明的一个实施例,提供了一种防区规划处理方法,包括:

接收雷达在预定时间内对监控场景进行探测得到的目标图像;

将所述目标图像与所述监控场景的俯视图进行叠加;

在叠加所述目标图像的所述俯视图中对所述雷达进行校正;

根据校正后的所述雷达所监控的防区在所述俯视图中进行防区规划。

可选地,将所述目标图像与所述监控场景的俯视图进行叠加包括:

将所述目标图像中所述雷达在所述预定时间内探测到的目标点叠加到所述监控场景的俯视图中,并进行显示。

可选地,在叠加所述目标图像的所述俯视图中对所述雷达进行校正包括:

接收修正所述雷达的位置和/或朝向的修正指令;

根据所述修正指令将所述雷达探测到的目标点与所述俯视图中对应的障碍物重合。

可选地,根据校正后的所述雷达所监控的防区在所述俯视图中进行防区规划包括:

将所述目标点与所述俯视图中对应障碍物的重合点所在区域设置为屏蔽区域;

将所述俯视图中所述雷达所监控的防区除所述屏蔽区域之外的区域设置为所述雷达的目标防区。

可选地,所述将所述目标点与所述俯视图中对应障碍物的重合点所在区域设置为屏蔽区域包括:

接收通过交互操作在所述俯视图中进行绘制的绘制指令;

根据所述绘制指令确定所述屏蔽区域。

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