[发明专利]离子注入机的剂量量测系统的检测方法

说明书

本申请公开了一种离子注入机的剂量量测系统的检测方法，涉及半导体制造领域。该方法包括设置直流电源的电流标准值；在对晶圆进行离子注入之前，通过直流电源按电流标准值向离子注入机的剂量量测系统提供测试电流；通过剂量量测系统测量直流电源提供的测试电流的电流值；检测直流电源的电流标准值与剂量量测系统测量的电流值的差值是否超出预定范围；根据检测结果确定离子注入机的剂量量测系统是否发生异常；解决了目前剂量量测系统的异常容易导致晶圆报废的问题；达到了在进行离子注入前实现剂量量测系统的自检，及时发现剂量量测系统的异常情况，避免因剂量量测系统异常导致晶圆报废的效果。

技术领域

本申请涉及半导体制造领域，具体涉及一种离子注入机的剂量量测系统的检测方法。

背景技术

离子注入机是半导体器件制造中最关键的设备之一，包含离子源、引出电极和离子分析器、加速管、扫描系统和工艺室。在离子注入工艺中，注入剂量是关键工艺参数之一，造成制程中注入剂量的偏差主要来自两个方面，一方面是离子注入机台本身的影响令注入剂量长期在一定范围内波动，另一方面是机台硬件的异常导致注入剂量突然的波动。

离子注入机台是通过剂量(dose)量测系统测算单位时间内单位面积离子束电流大小，以及根据扫描系统的速度和次数最终确定打到晶圆内的离子剂量。如果剂量量测系统发生故障令量测的离子束电流大小不准确，就会导致注入晶圆内的离子剂量异常，令晶圆报废。

目前，当在线检测到晶圆异常，且监控器数据指示剂量异常时，再检测剂量量测系统是否出现异常，无法避免因剂量量测系统异常引起的晶圆报废。

发明内容

为了解决相关技术中的问题，本申请提供了一种离子注入机的剂量量测系统的检测方法。该技术方案如下：

一方面，本申请实施例提供了一种离子注入机的剂量量测系统的检测方法，该方法包括：

设置直流电源的电流标准值；

在对晶圆进行离子注入之前，通过直流电源按电流标准值向离子注入机的剂量量测系统提供测试电流；

通过剂量量测系统测量直流电源提供的测试电流的电流值；

检测直流电源的电流标准值与剂量量测系统测量的电流值的差值是否超出预定范围；

根据检测结果确定离子注入机的剂量量测系统是否发生异常。

可选的，检测直流电源的电流标准值与剂量量测系统测量的电流值的差值是否超出预定范围，包括：

通过离子注入机的控制系统获取剂量量测系统测量的电流值；

通过离子注入机的控制系统检测直流电源的电流标准值与剂量量测系统测量的电流值的差值是否超出预定范围。

可选的，根据检测结果确定离子注入机的剂量量测系统是否发生异常，包括：

若检测结果为直流电源的电流标准值与剂量量测系统测量的电流值的差值未超出预定范围，则确定剂量量测系统未发生异常；

若检测结果为直流电源的电流标准值与剂量量测系统测量的电流值的差值超出预定范围，则确定剂量量测系统发生异常。

可选的，预定范围为电流标准值的1％以内。

可选的，剂量量测系统包括法拉第系统和量测控制系统，量测控制系统与法拉第系统连接。

可选的，通过剂量量测系统测量直流电源提供的测试电流的电流值，包括：

通过离子注入机的控制系统向量测控制系统发送量测指令；

通过量测控制系统根据量测指令控制法拉第系统对直流电源提供的测试电流进行测量；