[发明专利]真空室及基板处理装置有效
申请号: | 202010406402.7 | 申请日: | 2020-05-14 |
公开(公告)号: | CN112210765B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 江藤谦次;冈山智彦;龟崎厚治;阿部洋一 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/50 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 崔今花;周艳玲 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 处理 装置 | ||
1.一种真空室,由多个块体沿基板的运送方向配置而构造,其中所述块体在从所述运送方向观察时具有环状的开口空间,所述真空室能够将通过连通所述多个块体的所述开口空间而形成的内部空间的气氛切换为大气压气氛和真空气氛,所述真空室包括:
作为所述多个块体之一的第一块体;
作为所述多个块体之一的第二块体,具有沿与所述运送方向交叉的方向延伸且在所述开口空间的内侧下表面上形成的槽,所述第二块体通过密封部件连接固定到所述第一块体;
基底部件,沿所述槽的延伸方向延伸且嵌合到所述槽中;和
多个基板支撑销,具有支撑端和固定端,所述支撑端与所述基板接触,所述固定端位于所述支撑端的相反侧且固定到所述基底部件,所述多个基板支撑销在所述真空室的内部支撑所述基板。
2.根据权利要求1所述的真空室,其中,
所述多个块体中的至少两个块体分别具有排气部,所述排气部在所述真空室的俯视中设置在与所述真空室的所述内部空间的四个角区域对应的位置上。
3.根据权利要求1所述的真空室,其中,
所述槽位于所述第一块体与所述第二块体之间,
在嵌合到所述槽的所述基底部件与所述基板支撑销的所述固定端之间设置有罩,所述罩覆盖所述第一块体与所述第二块体之间的间隙。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的真空室,其中,
在从与所述基板平行且与所述运送方向交叉的方向观察的侧视中,
在所述多个块体中的至少一个块体的侧面上形成有窗口。
5.根据权利要求1所述的真空室,其中,
所述多个块体中的至少两个块体分别具有定位机构,所述定位机构在所述真空室的俯视中设置在与配置于所述真空室的内部的所述基板的四个角部对应的位置上,
各定位机构包括:
第一辊,能够绕与所述运送方向平行的轴线转动;和
第二辊,能够绕平行于和所述运送方向正交的方向的轴线转动,
在所述基板与所述多个基板支撑销的所述支撑端接触的状态下,通过所述第一辊和所述第二辊定位所述基板的角部。
6.一种基板处理装置,包括:
真空室,由多个块体沿基板的运送方向配置而构造,其中所述块体在从所述运送方向观察时具有环状的开口空间,所述真空室能够将通过连通所述多个块体的所述开口空间而形成的内部空间的气氛切换为大气压气氛和真空气氛;
与所述真空室连接的转运室;
与所述转运室连接的工艺室;和
运送机器人,在所述真空室与所述转运室之间、以及在所述转运室与所述工艺室之间进行所述基板的转交,并且设置在所述转运室的内部,
所述真空室包括:
作为所述多个块体之一的第一块体;
作为所述多个块体之一的第二块体,具有沿与所述运送方向交叉的方向延伸且在所述开口空间的内侧下表面上形成的槽,所述第二块体通过密封部件连接固定到所述第一块体;
基底部件,沿所述槽所延伸的方向延伸且嵌合到所述槽中;和
多个基板支撑销,具有支撑端和固定端,所述支撑端与所述基板接触,所述固定端位于所述支撑端的相反侧且固定到所述基底部件,所述多个基板支撑销在所述真空室的内部支撑所述基板。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置,其中,
所述运送机器人包括:
机械手;
臂,用于使所述机械手沿所述运送方向移动;和
升降机构,用于使所述机械手沿所述基板的铅直方向移动,
在所述真空室的所述内部空间中,
通过所述臂的驱动,所述机械手在所述基板的下方位置与所述转运室之间移动,
通过所述升降机构的驱动,所述机械手在所述基板的下方位置与所述基板的上方位置之间上下运动。
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