[发明专利]真空室及基板处理装置

说明书

本发明公开真空室及基板处理装置。真空室由多个块体沿基板的运送方向配置而构造，其中块体在从运送方向观察时具有环状的开口空间，真空室能够将通过连通多个块体的开口空间而形成的内部空间的气氛切换为大气压气氛和真空气氛，该真空室包括：作为多个块体之一的第一块体；作为多个块体之一的第二块体，具有沿与运送方向交叉的方向延伸且在开口空间的内侧下表面上形成的槽，第二块体通过密封部件连接固定到第一块体；基底部件，沿着槽的延伸方向延伸且嵌合到槽中；和多个基板支撑销，具有支撑端和固定端，支撑端与基板接触，固定端位于支撑端的相反侧且固定到基底部件，多个基板支撑销在真空室的内部支撑基板。

技术领域

本发明涉及一种真空室及基板处理装置。

背景技术

以往，已知有具备称作负载锁定室的真空处理装置。负载锁定室在处于大气压气氛的真空处理装置的外部与处于真空气氛的内部之间进行基板运送(例如，参照专利文献1)。

一般而言，负载锁定室由具有面积大于运送对象基板的面积的开口的腔室主体、关闭腔室主体的上部开口的盖和配置在负载锁定室的出入口上的闸阀构造。在腔室主体与盖之间的接触面及腔室主体与闸阀的阀体之间的接触面上设置有O型圈等密封部件，从而能够得到负载锁定室的密闭性。

在具有这种结构的负载锁定室的内部，反复产生由真空泵的驱动生成的真空气氛和由氮气等尾气的供给生成的大气压气氛。

通过将负载锁定室的内部设为大气压气氛，能够在大气压侧机械臂与负载锁定室之间运送基板。通过驱动设置于负载锁定室的内部的升降机构，使得升降销沿上下方向移动，由大气压侧机械臂向升降销转交基板，或者由升降销向大气压侧机械臂转交基板。

通过将负载锁定室的内部设为真空气氛，能够在设置于与负载锁定室相邻的运送腔室内的真空侧机械臂与负载锁定室之间运送基板。通过驱动升降机构来使升降销沿上下方向移动，由真空侧机械臂对升降销转交基板，或者由升降销对真空侧机械臂转交基板。

专利文献1：日本专利第5462946号公报

然而，上述现有负载锁定室具有以下问题。

(1)如果伴随构造升降机构的气缸等驱动装置的驱动而发生振动，则该振动传递到构造升降机构的其他部件或与升降机构相邻的部件。由此，具有堆积在负载锁定室内部的颗粒上扬及飞散并且颗粒附着到基板的问题。

(2)由于反复产生真空气氛和大气压气氛，因此O型圈被盖挤破，或者O型圈产生恢复力。由此，具有如下问题：因在O型圈与盖之间产生的摩擦而从O型圈发生颗粒，该颗粒向负载锁定室的内部空间飞散并附着到基板上。此外，近年来，运送对象基板趋于大型化，例如为了运送如一边大于1500mm的大型基板，负载锁定室也趋于大型化。与此相应地，盖面积增加，随之盖的弯曲量也增加，并且因反复生成真空气氛及大气压气氛而O型圈与盖之间的摩擦量也与以往相比增加。此外，具有如下问题：即，不仅因O型圈与盖之间的摩擦，还因起因于构造负载锁定室的部件与盖之间接触的摩擦，会发生颗粒，并且颗粒附着到基板上。

发明内容

本发明是考虑这种情况而完成的，提供一种实现以下目的的真空室及具备该真空室的基板处理装置。

1、防止伴随升降机构的驱动产生的振动引起的颗粒上扬及飞散，并且防止颗粒附着到运送对象基板。

2、防止由腔室主体与盖之间的密封部件产生的颗粒发生，并且防止颗粒附着到运送对象基板。