[发明专利]转印式滚轮的修复方法及转印式滚轮在审
申请号: | 202010406627.2 | 申请日: | 2020-05-14 |
公开(公告)号: | CN113665234A | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 林刘恭 | 申请(专利权)人: | 光群雷射科技股份有限公司 |
主分类号: | B41F16/00 | 分类号: | B41F16/00;B41N3/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 刘凤迪 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转印式 滚轮 修复 方法 | ||
本发明公开一种转印式滚轮及其修复方法。所述转印式滚轮的修复方法包含前置步骤、置料步骤及成形步骤。在所述前置步骤中,提供一转印式滚轮与一修复模具。所述转印式滚轮形成有一纹路图案层,其具有一缺陷区域。所述修复模具的外形能与所述纹路图案层的局部互补。在所述置料步骤中,在所述缺陷区域设置有一修复材料,其能用来与所述纹路图案层产生共晶反应。在所述成形步骤中,加热所述转印式滚轮以软化所述修复材料,并将所述修复模具压迫于所述修复材料以使所述修复材料在所述缺陷区域形成补齐所述纹路图案层的一修补构造。所述转印式滚轮的修复方法能在不需更换整个现有的转印式滚轮的情况下,对现有的转印式滚轮的表面进行修复。
技术领域
本发明涉及一种滚轮的修复方法及滚轮,尤其涉及一种转印式滚轮的修复方法及转印式滚轮。
背景技术
在现有的转印式滚轮中,若其表面上有呈凹入状的缺陷区域,则该缺陷区域会使得通过现有的转印式滚轮所制造的成品表面会产生对应的缺陷。此外,现有的转印式滚轮通常成本高昂,因此,在不需更换整个现有的转印式滚轮的情况下,提供一种能对现有的转印式滚轮的表面进行修复的方法已成为该项事业所欲解决的重要课题之一。
于是,本发明人认为上述缺陷可改善,通过研究并配合科学原理的运用,提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本发明。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于,针对现有技术的不足提供一种转印式滚轮的修复方法及转印式滚轮,能有效改善现有的转印式滚轮的修复方法及转印式滚轮所存在的缺陷。
本发明实施例在于提供一种转印式滚轮的修复方法,其包括:一前置步骤:提供一转印式滚轮与一修复模具;其中,所述转印式滚轮的外缘形成有一纹路图案层,并且所述纹路图案层具有凹入状的一缺陷区域;所述修复模具形成有一构形面,该构形面的外形能与所述纹路图案层的局部互补;一置料步骤:在所述缺陷区域设置有一修复材料,该修复材料能用来与所述纹路图案层产生共晶反应;以及一成形步骤:加热所述转印式滚轮以软化所述修复材料,并将所述修复模具的所述构形面压迫于所述修复材料以使所述修复材料在所述缺陷区域形成补齐所述纹路图案层的一修补构造。
优选地,在所述修复材料与所述纹路图案层所产生的所述共晶反应中,生成一界面金属共化物(intermetallic compound,IMC)。
优选地,所述纹路图案层的材质包含镍金属,而所述修复材料的材质包含锡金属,并且所述接口金属共化物为一锡镍介金属(Ni3Sn4)。
优选地,在所述成形步骤中,加热所述转印式滚轮的温度不大于260℃,并且所述修复材料与所述纹路图案层通过所述转印式滚轮的加热而产生所述共晶反应。
优选地,在所述成形步骤中,所述修补构造的外缘与所述纹路图案层的外缘彼此切齐且共同形成一规则性图案。
优选地,所述规则性图案为一正弦波形表面,并且所述正弦波形表面的任两个相邻的波峰之间相隔有介于0.9微米(μm)至1.1微米的一间隔。
本发明实施例在于提供一种转印式滚轮,其包括:一轮本体,呈圆柱状;一纹路图案层,形成于所述轮本体的外表面,并且所述纹路图案层具有凹入状的一缺陷区域;以及一修补构造,其填充于所述缺陷区域且无间隙地连接所述纹路图案层,并且所述修补构造的外缘与所述纹路图案层的外缘彼此切齐且共同形成一规则性图案。
优选地,所述修补构造的材质不同于所述纹路图案层的材质。
优选地,所述纹路图案层的材质包含镍金属,而所述修补构造的材质包含一锡镍介金属(Ni3Sn4)。
优选地,所述规则性图案为一正弦波形表面,并且所述正弦波形表面的任两个相邻的波峰之间相隔有介于0.9微米(μm)至1.1微米的一间隔。
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