[发明专利]用于生成电路版图图案的方法、设备和存储介质

权利要求书

1.一种生成电路版图图案的方法，包括：

获取与电路版图中的几何图形的尺寸和位置相关的约束条件；

从所述约束条件，确定用于约束单个几何图形的尺寸范围和用于约束相邻几何图形的间距范围；以及

基于所述尺寸范围和所述间距范围，生成样本图案集，所述样本图案集中的样本图案包括至少一个几何图形；

其中生成所述样本图案集包括：

基于所述尺寸范围，确定与单个几何图形的尺寸有关的至少一组候选尺寸；

基于所述间距范围，确定与几何图形之间的相对位置有关的一组候选间距；以及

通过组合所述至少一组候选尺寸中的候选尺寸和所述一组候选间距中的候选间距，生成所述样本图案集中的多个样本图案。

2.根据权利要求1所述的方法，其中生成所述样本图案集中的多个样本图案包括：

从所述至少一组候选尺寸中，选择多个目标尺寸；

从所述一组候选间距中，选择目标间距；以及

通过以所述目标间距布置相邻几何图形，生成所述多个样本图案中包括所述相邻几何图形的样本图案，所述相邻几何图形具有所述多个目标尺寸的相应尺寸。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述目标间距表示所述相邻几何图形在第一方向上的距离，并且布置所述相邻几何图形包括以下中的一项：

使所述相邻几何图形在所述第一方向上对齐，或

使所述相邻几何图形在第二方向上相对移位，其中，所述第二方向与所述第一方向垂直。

4.根据权利要求2所述的方法，其中所述相邻几何图形包括以下至少一项：

在长度方向上相邻的长方形，

在宽度方向上相邻的长方形，

在长度方向上偏移的长方形，或

在宽度方向上偏移的长方形。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述样本图案集中的样本图案在以下一个或多个方面彼此不同：

所包括的几何图形的数目，

所包括的几何图形的尺寸，

所包括的多个几何图形之间的间距，或

所包括的多个几何图形之间的对齐性。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述对齐性包括：

所述多个几何图形的中心对齐，

所述多个几何图形的中心不对齐，

所述多个几何图形的端部对齐，或

所述多个几何图形的端部不对齐。

7.根据权利要求1所述的方法，其中获取所述约束条件包括：

标识参考电路版图中的多个边界元素，边界元素表示所述参考电路版图中的相应参考几何图形的边界的至少一部分；

基于所述多个边界元素在所述参考电路版图中的位置，确定所述多个边界元素彼此之间的距离；以及

基于确定的所述距离，确定所述约束条件。

8.根据权利要求1所述的方法，还包括：

获得针对所述电路版图的另外的样本图案集，所述样本图案集和所述另外的样本图案集包括不同类型的样本图案，所述不同类型的样本图案分别与所述电路版图中的不同组成元素相关；以及

通过组合所述样本图案集和所述另外的样本图案集中的个体样本图案，生成所述电路版图的局部图案。

9.根据权利要求8所述的方法，其中组合所述样本图案集和所述另外的样本图案集中的个体样本图案是基于以下至少一项：

所述局部图案中相同类型的样本图案的数目，

所述相同类型的样本图案的相对位置，或

所述局部图案中不同类型的样本图案的相对位置。