[发明专利]剂量调制

权利要求书

1.一种用于借助结构化的阳极(19)来确定X射线辐射的强度的方法，所述方法具有下述步骤：

-提供X射线管(11)，所述X射线管具有结构化的阳极(19)，所述结构化的阳极具有第一阳极微结构(20)和第二阳极微结构(21)，

-在控制单元(15)中提供根据所述第一阳极微结构(20)的第一X射线辐射强度特征数和根据所述第二阳极微结构(21)的第二X射线辐射强度特征数，

-在所述控制单元(15)中根据在成像测量时要检查的患者(P)确定所述X射线辐射的强度的第一期望值，

-在所述控制单元(15)中根据所述X射线辐射的强度的所述第一期望值，选择所述第一X射线辐射强度特征数或所述第二X射线辐射强度特征数作为第一期望值X射线辐射强度特征数，和

-为了生成所述X射线辐射，根据所选择的所述第一期望值X射线辐射强度特征数，将所述X射线管(11)的电子束定向到所述第一阳极微结构(20)上或定向到所述第二阳极微结构(21)上，由此确定所述结构化的阳极(19)的所述X射线辐射的强度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在所述控制单元(15)中根据在成像测量时要检查的患者(P)来确定所述X射线辐射强度的第二期望值，其中在所述控制单元(15)中根据所述X射线辐射的强度的第二期望值选择第二期望值X射线辐射强度特征数，并且其中根据所选择的所述第二期望值X射线辐射强度特征数，将所述X射线管(11)的电子束重新定向到所述第一阳极微结构(20)或所述第二阳极微结构(21)上。

3.根据权利要求2所述的方法，其中在根据所选择的所述第一期望值X射线辐射强度特征数定向所述电子束之后，在小于1s的电子束定向时间内，根据所选择的所述第二期望值X射线辐射强度特征数重新定向所述电子束。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述电子束定向时间小于1ms。

5.根据权利要求3或4所述的方法，其中所述电子束定向时间与所述成像测量的X射线检测器读取时间相匹配。

6.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中所述第一阳极微结构(20)与所述第二阳极微结构(21)的区别在于下述参数中的至少一个参数：

-槽深，

-槽宽，

-中心点间距，

-在槽的打点中。

7.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中所述电子束借助于电磁偏转单元或借助于韦纳尔圆柱体定向。

8.根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中提供具有第三阳极微结构(23)和第四阳极微结构(24)的另一结构化的阳极(22)作为另一X射线管(13)的一部分，其中在所述控制单元(15)中提供根据所述第三阳极微结构(23)的第三X射线辐射强度特征数和根据所述第四阳极微结构(24)的第四X射线辐射强度特征数，其中在所述控制单元(15)中以与所述第一期望值互补的方式确定所述另一结构化的阳极(22)的X射线辐射的强度的另一期望值，其中在所述控制单元(15)中选择所述第三X射线辐射强度特征数或所述第四X射线辐射强度特征数作为根据所述X射线辐射的强度的另一期望值的另一期望值X射线辐射强度特征数，并且其中为了生成所述X射线辐射，根据所选择的所述另一期望值X射线辐射强度特征数，将所述另一X射线管(13)的另一电子束定向到所述第三阳极微结构(23)或所述第四阳极微结构(24)上，由此确定所述另一结构化的阳极(22)的X射线辐射的强度。