[发明专利]设备操作方法和基板处理设备

权利要求书

1.一种设备操作方法，包括：

向反应器室的内部提供气体，以对反应器室的内部中的基板执行处理；以及

在将基板装载到反应器室/从反应器室卸载基板期间，不经由反应器室而将等离子体提供给与反应器室连通的排出管线或与排出管线连通的干式泵，以执行排出管线和干式泵中的至少一个的清洁。

2.根据权利要求1所述的设备操作方法，还包括经由连接远程等离子体单元和反应器室的连接管线从产生用于清洁的等离子体的远程等离子体单元向反应器室提供等离子体，以执行反应器室的清洁。

3.根据权利要求2所述的设备操作方法，其中，当执行排出管线和干式泵中的至少一个的清洁时，经由连接远程等离子体单元和排出管线的旁通管线从远程等离子体单元向排出管线提供等离子体。

4.根据权利要求3所述的设备操作方法，其中，从旁通管线提供给排出管线的等离子体量由压力控制阀调节。

5.根据权利要求2所述的设备操作方法，其中，当执行排出管线和干式泵中的至少一个的清洗时，通过与远程等离子体单元分开设置的专用远程等离子体单元将等离子体直接提供给干式泵。

6.根据权利要求5所述的设备操作方法，其中，所述干式泵具有多个腔室，在每个腔室中设置有旋转的叶轮，并且所述专用远程等离子体单元的等离子体分别提供给所述多个腔室。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的设备操作方法，其中，根据主方案执行所述反应器室的清洁，并且根据与主方案平行的子方案执行排出管线和干式泵中的至少一个的清洁。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的设备操作方法，其中，在完成基板的装载或卸载之前，完成排出管线和干式泵中的至少一个的清洁。

9.一种基板处理设备，包括：

反应器室；

远程等离子体单元，其经由连接管线与反应器室连通并提供等离子体；

干式泵，其经由排出管线与反应器室连通并排出反应器室的气体；以及

将连接管线和排出管线连接的旁通管线。

10.根据权利要求9所述的基板处理设备，其中，

所述远程等离子体单元设置在反应器室上方，所述排出管线设置在反应器室下方，并且

沿反应器室的表面设置旁通管线。

11.根据权利要求10所述的基板处理设备，其中，所述旁通管线是弯曲管线。

12.根据权利要求10所述的基板处理设备，其中，将所述旁通管线的弯曲部变圆。

13.一种基板处理设备，包括：

反应器室；

干式泵，其经由排出管线与反应器室连通并排出反应器室的气体；以及

直接连接到干式泵的专用远程等离子体单元。

14.根据权利要求13所述的基板处理设备，其中，所述干式泵包括与排出管线连通的第一入口、与专用远程等离子体单元连通的第二入口以及排出端口。

15.根据权利要求14所述的基板处理设备，其中，所述干式泵具有设置在与第一入口连通的第一空间中的第一叶轮和设置在与第一空间连通的第二空间中的第二叶轮，并且提供了从第二入口到达第一空间的第一路径和从第二入口到达第二空间的第二路径。

16.根据权利要求15所述的基板处理设备，还包括：第一阀，其打开和关闭第一路径；以及第二阀，其打开和关闭第二路径。