[发明专利]一种石墨烯纳米三防胶及其制备方法

权利要求书

1.一种石墨烯纳米三防胶，其特征在于，包括以下质量百分比组分：

改性聚氨酯树脂:20-30％；

功能性二维纳米片状石墨烯：20-30％；

聚氨酯固化剂MDI：20-30％；

消泡剂：1-5％；

疏水性气相二氧化硅：1-5％；

石墨烯分散剂：15-25％。

2.根据权利要求1所述的一种石墨烯纳米三防胶，其特征在于，各所述组分的质量百分比为：

改性聚氨酯树脂:26％；

功能性二维纳米片状石墨烯：28％；

聚氨酯固化剂MDI：23％；

消泡剂：2％；

疏水性气相二氧化硅：1％；

石墨烯分散剂：20％。

3.根据权利要求1或2任一项所述的一种石墨烯纳米三防胶的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：

第一步：按照上述质量百分比的各组分备料；

第二步：将准备好的改性聚氨酯树脂加入到反应釜中，升温至50-55℃的情况下加入石墨烯分散剂和功能性二维纳米片状石墨烯，搅拌均匀一段时间，再冷却至20-25℃；

第三步：向冷却至20-25℃后的反应釜中分别加入疏水性气象二氧化硅，消泡剂，聚氨酯固化剂MDI，完全搅拌混匀一段时间，得到成品；

第四步：测试成品后分装。

4.根据权利要求3所述的一种高强度晶元结构粘接胶的制备方法，其特征在于，所述改性聚氨酯树脂为采用氢化MDI与聚酯二元醇聚合反应，采用HEMA封端制成。

5.根据权利要求3所述的一种高强度晶元结构粘接胶的制备方法，其特征在于，所述反应釜采用双行星搅拌釜，搅拌速度采用中速搅拌。

6.根据权利要求3所述的一种高强度晶元结构粘接胶的制备方法，其特征在于，所述第二步中石墨烯分散剂和功能性二维纳米片状石墨烯采用分三次加入。

7.根据权利要求6所述的一种高强度晶元结构粘接胶的制备方法，其特征在于，所述石墨烯分散剂和功能性二维纳米片状石墨烯在逐次加入时，其加入的量逐次递减，其中，第一次加入的石墨烯分散剂和功能性二维纳米片状石墨烯量为其总量的一半。