[发明专利]柔性基板的制备方法及柔性基板

权利要求书

1.一种柔性基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1、在彩色滤光片玻璃基板和薄膜晶体管玻璃基板上分别涂布剥离层溶液，分别在所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板上形成第一剥离层和第二剥离层；

步骤S2、在所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板上分别涂布柔性层溶液，在所述彩色滤光片玻璃基板上形成第一柔性层以及第一固定层，在所述薄膜晶体管玻璃基板上形成第二柔性层以及第二固定层；所述彩色滤光片玻璃基板的边缘到所述第一固定层的距离与所述薄膜晶体管玻璃基板的边缘到所述第二剥离层的距离相等；

步骤S3、对所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板分别进行化学气相沉积以及物理气相沉积；

步骤S4、将所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板进行对组成盒；

步骤S5、使用刀轮切除所述彩色滤光片玻璃基板的边缘部分，露出所述第二固定层，使用刀片切割所述第二固定层，用于制造一个分离起点，使用机械剥离设备取下所述薄膜晶体管玻璃基板；

步骤S6、使用机械剥离设备取下所述彩色滤光片玻璃基板。

2.根据权利要求1所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1中，在所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板上形成第一剥离层和第二剥离层，具体为：

对所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板进行清洗和预处理后，将所述剥离层溶液涂布在所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板上，在20℃到160℃的温度下干燥1小时到4小时，来去除多数溶剂；然后在真空环境以及200℃到350℃的温度下进一步的去除残存的溶剂；然后自然降温至室温，得到在所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板上形成的所述第一剥离层和所述第二剥离层。

3.根据权利要求1所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述第一剥离层和所述第二剥离层的厚度为0.5微米到3微米，所述第一剥离层和所述第二剥离层的材料为聚酰亚胺或硅基类聚合物材料。

4.根据权利要求1所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，在所述步骤S2中，具体为：

对经所述步骤S1处理后的所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板进行清洗和预处理后，将柔性层溶液分别涂布在所述彩色滤光片玻璃基板和所述薄膜晶体管玻璃基板上，在80℃到140℃的温度下干燥4小时到12小时，来去除多数溶剂；然后在真空环境以及200℃到350℃的温度下进行化学反应或进一步的去除残存的溶剂；然后自然降温至室温，得到在所述彩色滤光片玻璃基板形成第一柔性层以及第一固定层，在所述薄膜晶体管玻璃基板上形成第二柔性层以及第二固定层。

5.根据权利要求4所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，所述第一固定层和所述第二固定层的材料与所述第一柔性层和/或所述第二柔性层的材料相同；

其中，所述第一固定层位于所述第一剥离层的周围，所述第二固定层位于所述第二剥离层的周围。

6.根据权利要求4所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，在所述步骤S2中，所述第一柔性层和所述第二柔性层的厚度为5微米到20微米，所述第一柔性层和所述第二柔性层的材料为聚酰亚胺或PET材料或聚碳酸酯材料或聚萘二甲酸乙二醇酯材料或三醋酸纤维薄膜材料或COP材料。

7.根据权利要求1所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，所述第一剥离层与所述彩色滤光片玻璃基板的附着力大于所述第一剥离层与所述第一柔性层的附着力。

8.根据权利要求1所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，所述第二剥离层与所述薄膜晶体管玻璃基板的附着力大于所述第二剥离层与所述第二柔性层的附着力。

9.一种柔性基板，其特征在于，所述柔性基板由权利要求1-8任一项所述的柔性基板的制备方法所制备；

所述柔性基板包括：层叠设置的第一柔性层、功能层以及第二柔性层，所述功能层包括薄膜晶体管以及液晶层。