[发明专利]质控物质选择方法及装置

权利要求书

1.一种质控物质选择方法，其特征在于，所述方法包括：

分别对被测样品和可选质控物质进行非接触成像处理，得到高光谱图像；

采集高光谱图像中被测样品的光谱数据和可选质控物质的光谱数据；

将被测样品的光谱数据作为目标数据，将可选质控物质的光谱数据作为对比数据，对所述目标数据和所述对比数据进行相似性比较分析，得到比较分析结果；

根据所述比较分析结果选出目标质控物质；

其中，所述对所述目标数据和所述对比数据进行相似性比较分析，得到比较分析结果包括：

分别对所述目标数据和所述对比数据进行修正处理，得到修正后的数据；

确定所述被测样品和可选质控物质高光谱成像图中的感兴趣区域；

根据所述修正后的数据确定所述被测样品的感兴趣区域的平均光谱曲线和所述可选质控物质的感兴趣区域的平均光谱曲线；

利用所述平均光谱曲线进行相似性比较分析，得到比较分析结果；

其中，所述利用所述平均光谱曲线进行相似性比较分析，得到比较分析结果包括：

计算被测样品平均光谱曲线与空白样品光谱曲线各波段一阶导数距离，并选出其中的最大值作为被测样品平均光谱曲线的最大一阶导数距离；

计算可选质控物质平均光谱曲线与所述空白样品光谱曲线各波段一阶导数距离，并选出其中的最大值作为可选质控物质平均光谱曲线的最大一阶导数距离；

确定所述可选质控物质平均光谱曲线各波段一阶导数距离与所述被测样品平均光谱曲线各波段一阶导数距离是否存在显著性差异，且二者的最大一阶导数距离是否位于同一波段；

所述根据比较分析结果选出目标质控物质包括：

如果所述可选质控物质平均光谱曲线各波段一阶导数距离与所述被测样品平均光谱曲线各波段一阶导数距离无显著性差异，且二者的最大一阶导数距离位于同一波段，则将所述可选质控物质选作目标质控物质。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分别对被测样品和可选质控物质进行非接触成像处理，得到高光谱图像包括：

利用高光谱成像系统分别对被测样品和可选质控物质进行非接触成像处理，得到高光谱图像。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述分别对所述目标数据和所述对比数据进行修正处理包括：

分别对所述目标数据和所述对比数据进行校正，所述校正包括：辐射校正和黑白校正；

将校正后的数据转换为相对反射率数据，对所述相对反射率数据进行最小噪声分离变换。