[发明专利]三维存储器装置在审

专利信息
申请号: 202010446737.1 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN112038348A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 金昶汎;金成勳;金胜渊 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11529;H01L27/11548;H01L27/11565;H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11575
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;张川绪
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 三维 存储器 装置
【说明书】:

提供一种三维存储器装置,包括:第一存储器单元阵列,包括垂直堆叠在基底的顶表面的第一存储器单元阵列区域上的第一存储器单元;第二存储器单元阵列,包括垂直堆叠在顶表面的第二存储器单元阵列区域上的第二存储器单元;多条第一字线,连接到第一存储器单元并包括所述多条第一字线的子集和剩余的第一字线;多条第二字线,连接到第二存储器单元并包括所述多条第二字线的子集和剩余的第二字线;行解码器,包括多个合并传输晶体管,所述多个合并传输晶体管各自公共连接到所述多条第一字线的子集中的相应的一条第一字线和所述多条第二字线的子集中的相应的一条第二字线,行解码器设置在第一存储器单元阵列区域与第二存储器单元阵列区域之间的区域中。

要求于2019年6月3日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0065472号韩国专利申请的优先权,所述韩国专利申请的公开通过引用全部包含于此。

技术领域

发明构思涉及存储器装置,更具体地,涉及三维存储器装置。

背景技术

存储器装置用于存储数据,并且通常被分类为在没有电力的情况下丢失数据的易失性存储器装置或者在没有电力的情况下保持数据的非易失性存储器装置。非易失性存储器装置的一个示例是在蜂窝电话、数码相机、便携式数字助理(PDA)、移动计算机装置、固定计算机装置和其他装置中常见的闪存装置。

已经开发了三维(3D)存储器装置以满足非易失性存储器装置的更高的存储器容量和小型化的矛盾需求。三维存储器装置是包括垂直地堆叠在基底上的多个存储器单元或者存储器单元阵列的存储器装置。然而,随着堆叠的存储器单元的数量增加,控制存储器单元所需的晶体管的数量急剧增加。结果,在三维存储器装置中布置晶体管所需的空间增加,因此三维存储器装置的总体尺寸增加。这会导致难以避免超过包括三维存储器装置的存储器封装的临界尺寸。

发明内容

发明构思提供了通过晶体管与存储器单元之间的连接结构以及晶体管的布置结构减小尺寸的三维存储器装置。

发明构思的实施例提供一种存储器装置,所述存储器装置包括:基底,包括顶表面;第一存储器单元阵列,包括垂直堆叠在基底的顶表面的第一存储器单元阵列区域上的第一存储器单元;第二存储器单元阵列,包括垂直堆叠在基底的顶表面的第二存储器单元阵列区域上的第二存储器单元;多条第一字线,连接到第一存储器单元,所述多条第一字线包括所述多条第一字线的子集和剩余的第一字线;多条第二字线,连接到第二存储器单元,所述多条第二字线包括所述多条第二字线的子集和剩余的第二字线;和行解码器,包括多个合并传输晶体管,所述多个合并传输晶体管中的每个公共地连接到所述多条第一字线的子集中的相应的一条第一字线和所述多条第二字线的子集中的相应的一条第二字线,并且行解码器被设置在基底的顶表面的在第一存储器单元阵列区域与第二存储器单元阵列区域之间的行解码器区域中。

发明构思的实施例还提供一种存储器装置,所述存储器装置包括:基底,具有顶表面;第一存储器单元阵列,包括第一存储器堆叠,第一存储器堆叠包括垂直堆叠在基底的顶表面的第一存储器单元阵列区域上的第一存储器单元;第二存储器单元阵列,包括第二存储器堆叠,第二存储器堆叠包括垂直堆叠在基底的顶表面的第二存储器单元阵列区域上的第二存储器单元;多条第一字线,连接到第一存储器单元,所述多条第一字线包括所述多条第一字线的子集和剩余的第一字线;多条第二字线,连接到第二存储器单元,所述多条第二字线包括所述多条第二字线的子集和剩余的第二字线;多个第一合并传输晶体管,布置在第一存储器单元阵列区域与第二存储器单元阵列区域之间的区域中,所述多个第一合并传输晶体管中的每个公共地连接到所述多条第一字线的子集中的相应的一条第一字线和所述多条第二字线的子集中的相应的一条第二字线;多个第一传输晶体管,布置得与第一存储器单元阵列区域邻近并且分别连接到剩余的第一字线;和多个第二传输晶体管,布置得与第二存储器单元阵列区域邻近并且分别连接到剩余的第二字线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010446737.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top