[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板

说明书

本发明提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板。本发明提供的阵列基板，包括基板、设置在基板上的栅极、覆盖栅极及基板的栅绝缘层及设置在栅绝缘层上的半导体层和源极，以及覆盖栅绝缘层、半导体层和源极的钝化层和设置在钝化层上方的像素电极，钝化层中设有贯通钝化层的接触孔，接触孔与半导体层的局部区域对应，像素电极通过接触孔与半导体层接触；其中，半导体层和源极具有相互重叠的部分。本发明提供的阵列基板可避免产生高阻抗风险，并且可以节约生产成本，提高产品开口率。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。

背景技术

随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄、无辐射等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、笔记本电脑等各种消费性电子产品中，成为显示装置中的主流。

液晶显示面板通常由相对设置的阵列基板、彩膜基板以及夹设在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层组成，通过在阵列基板和彩膜基板之间施加驱动电压，可控制液晶分子旋转，从而将背光模组的光线折射出来产生画面。其中，对于底栅结构的阵列基板，通常是通过在玻璃基板上沉积金属层，并通过光刻工艺使金属层形成栅极；在玻璃基板和栅极上依次沉积栅绝缘层和半导体层，并通过光刻工艺形成有源岛图形；然后在半导体层上沉积源漏极金属层，并通过光刻工艺形成源极和漏极；在半导体层及源极和漏极上沉积钝化层，并通过光刻工艺在钝化层表面形成连通至漏极表面的导电过孔；最后在钝化层上沉积透明导电层，并通过光刻工艺形成像素电极。

但是，由于像素电极通过导电过孔与漏极连接，存在阻抗高的风险，这会影响阵列基板的薄膜晶体管的性能。

发明内容

本发明提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，阵列基板可避免产生高阻抗风险，并且可以节约生产成本，提高产品开口率。

第一方面，本发明提供一种阵列基板，该阵列基板包括基板、设置在基板上的栅极、覆盖栅极及基板的栅绝缘层及设置在栅绝缘层上的半导体层和源极，以及覆盖栅绝缘层、半导体层和源极的钝化层和设置在钝化层上方的像素电极，钝化层中设有贯通钝化层的接触孔，接触孔与半导体层的局部区域对应，像素电极通过接触孔与半导体层接触；其中，半导体层和源极具有相互重叠的部分。

在一种可能的实施方式中，源极的一侧覆盖部分半导体层，或者，半导体层的一侧覆盖部分源极。

在一种可能的实施方式中，半导体层的层数为至少一层，且半导体层为铟镓锌氧化物半导体层。

在一种可能的实施方式中，半导体层至少包括依次层叠在栅绝缘层上的第一半导体层和第二半导体层。

在一种可能的实施方式中，源极包括依次层叠在栅绝缘层上的第一金属层和第二金属层；其中，第一金属层中的金属包括钛、钼中的至少一种，第二金属层中的金属包括铜、铝中的至少一种。

在一种可能的实施方式中，栅绝缘层包括依次层叠在基板上的第一栅绝缘层和第二栅绝缘层，第一栅绝缘层为氮化硅层，第二栅绝缘层为氧化硅层。

在一种可能的实施方式中，钝化层包括依次层叠在栅绝缘层上的第一钝化层和第二钝化层，第一钝化层为氧化硅层，第二钝化层为氮化硅层。

在一种可能的实施方式中，阵列基板还包括有机绝缘层，有机绝缘层覆盖在钝化层上，像素电极设置在有机绝缘层上，接触孔贯通有机绝缘层和钝化层。

第二方面，本发明提供一种阵列基板的制作方法，该制作方法包括如下步骤：

在基板上依次形成栅极和栅绝缘层；

在栅绝缘层上形成半导体层和源极，其中，半导体层和源极具有相互重叠的部分；

在栅绝缘层上形成钝化层，钝化层覆盖栅绝缘层、半导体层和源极；