[发明专利]一种含表面氧化层的金属氢化物形核的分析方法有效

专利信息
申请号: 202010453624.4 申请日: 2020-05-26
公开(公告)号: CN111537534B 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: 汪小琳;闫冠云;纪和菲;陈杰;孙光爱;夏元华;邹林;史鹏;黄朝强;龚建 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
主分类号: G01N23/202 分类号: G01N23/202
代理公司: 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人: 张保朝;张晓林
地址: 621999 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 氧化 金属 氢化物 分析 方法
【权利要求书】:

1.一种含表面氧化层的金属氢化物形核的分析方法,其特征在于:所述的方法包括如下步骤:

a.制备待测金属样品;

b.将待测金属样品置于氢化反应腔中,向腔体内持续通入含氢气氛,同时开展小角散射测试,获得待测金属样品在通入含氢气氛过程中不同时间点的小角散射实验数据,其中,所述的小角散射测试为小角中子散射测试或超小角中子散射测试;

c.对所述的小角散射实验数据依次进行扣背底修正和绝对强度修正,获得所有时间点的绝对强度散射曲线;

d.对绝对强度散射曲线进行强度分析,获取氢化物形核的临界点;其中,

步骤d具体为,对所有时间点的绝对强度散射曲线的强度进行积分,获得总散射强度,分析总散射强度随时间的变化,总散射强度开始增加的时间即为氢化物形核的临界点;或

步骤d具体为,选一固定散射矢量,对所有的绝对强度散射曲线读取该散射矢量的散射强度,分析散射强度随时间的变化,散射强度开始增加的时间即为氢化物形核的临界点。

2.根据权利要求1所述的含表面氧化层的金属氢化物形核的分析方法,其特征在于,步骤a中,所述金属样品为薄片状。

3.根据权利要求1所述的含表面氧化层的金属氢化物形核的分析方法,其特征在于,步骤a中,所述金属样品为粉末状。

4.根据权利要求1所述的含表面氧化层的金属氢化物形核的分析方法,其特征在于,步骤b中,所述氢化反应腔为密闭容器,其中一相对侧壁设有可透过中子的观察窗口,另一相对侧壁设有可通入含氢气氛的管路。

5.根据权利要求1所述的含表面氧化层的金属氢化物形核的分析方法,其特征在于,步骤c具体为,对所述不同时间点的小角散射实验数据均依次进行扣背底修正和绝对强度修正,获得各不同时间点的绝对强度散射曲线。

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