[发明专利]一种叠氮功能化二氧化硅均孔膜用于细胞中H2

权利要求书

1.一种叠氮二氧化硅均孔膜用于H₂S的电化学检测方法，其特征是包括以下步骤：

（1）制备孔道内壁共价接枝叠氮基团的二氧化硅均孔膜修饰的工作电极；

（2）将制备的电极浸入不同浓度的NaSH标准溶液中反应一定时间；

（3）将（2）处理的电极清洗干净，测试其在铁氰化钾探针中的电化学信号，根据不同浓度NaSH标准溶液处理后铁氰化钾探针的电化学信号构建标准曲线；

（4）将制备的电极浸入到含一定数量癌细胞的溶液中，加入刺激物，引发细胞释放H₂S，反应一段时间，冲洗电极，测量处理过电极在铁氰化钾探针中的电化学信号，实现癌细胞中H₂S的检测。

2.根据权利要求1所述的一种叠氮二氧化硅均孔膜用于检测细胞内H₂S的电化学检测方法，其特征在于：步骤（1）中，所述的叠氮二氧化硅均孔膜修饰电极的制备：首先将氧化铟锡（ITO）玻璃电极置于NaOH、丙酮、乙醇、去离子水中各超声30 min处理，吹干备用。

3.将0.16 g十六烷基溴化铵（CTAB）溶解于70 mL去离子水和30 mL无水乙醇中，随后加入0.015 mL氨水和0.08 mL四乙氧基硅烷（TEOS），搅拌直至溶液澄清；将上述混合液转入染色盒中，放入10片ITO玻璃电极，60 ^oC反应36 h；反应结束后，用水冲洗ITO玻璃电极并用氮气吹干，100 ^oC下干燥过夜；在含有0.1 M盐酸的乙醇溶液中搅拌15 min将二氧化硅孔道中的CTAB分子除去；将处理好的电极浸入含35 mg/mL 3-叠氮基丙基三乙氧基硅烷的二氯乙烷中搅拌反应6 h，取出用二氯乙烷和乙醇冲洗电极，干燥后即可得到孔道内壁共价接枝叠氮基团的二氧化硅均孔膜修饰的工作电极。

4.根据权利要求1所述的一种叠氮二氧化硅均孔膜用于检测细胞内H₂S的电化学检测方法，其特征在于：步骤（2）中，将工作电极置于一系列不同浓度NaSH标准溶液中反应2.0 h。

5.根据权利要求1所述的一种叠氮二氧化硅均孔膜用于检测细胞内H₂S的电化学检测方法，其特征在于：步骤（3）中，将（2）制得电极置于含0.05 mM铁氰化钾溶液的pH 4.5的邻苯二甲酸氢钾缓冲溶液中，采用差分脉冲伏安法检测电化学信号，扫描电压-0.2-0.6V，根据电化学信号与NaSH的浓度绘制标准曲线。

6.根据权利要求1所述的一种叠氮二氧化硅均孔膜用于检测细胞内H₂S的电化学检测方法，其特征在于：步骤（4）中，将工作电极置于含一定数量的MCF-7细胞培养液中，加入40ng/mL VEGF，反应2.0 h，取出处理的电极用去离子水冲洗，用（3）中电化学方法测试其在0.05 mM铁氰化钾溶液的pH 4.5的邻苯二甲酸氢钾缓冲溶液中的信号，即可得到单个细胞中释放H₂S的浓度。