[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法在审
申请号: | 202010457046.1 | 申请日: | 2020-05-26 |
公开(公告)号: | CN112017994A | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 东克荣;森隆;滩和成;上前昭司;新庄淳一;秀浦伸二 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/306 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 范胜杰;金慧善 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 以及 方法 | ||
1.一种基板处理装置,其使用稀释后的药液对基板进行处理,其特征在于,该基板处理装置具备:
第一配管,其供给稀释用液;
第二配管,其供给药液;
第一调整部,其调整流过上述第一配管的稀释用液的流量;
混合罐,其将通过上述第一配管供给的稀释用液和通过上述第二配管供给的药液进行混合;
浓度计,其测量稀释用液和药液的混合液中的药液的浓度;以及
控制部,其决定稀释用液的流量的修正量以便通过上述浓度计测量的浓度成为设定值,并将所决定的修正量提供给上述第一调整部,
上述第一调整部根据由上述控制部提供的修正量,修正流过上述第一配管的稀释用液的流量。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
上述基板处理装置还具备贮存药液的药液罐,
上述第二配管与上述药液罐连接,并向上述混合罐供给贮存在上述药液罐中的药液。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,
上述药液罐包含第一药液罐和第二药液罐,
通过上述第二配管交替地向上述混合罐供给贮存在上述第一药液罐中的药液和贮存在上述第二药液罐中的药液。
4.根据权利要求1~3中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,
上述基板处理装置还具备:第三配管,其将通过上述第一配管供给的稀释用液和通过上述第二配管供给的药液进行混合的同时,导入到上述混合罐。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于,
上述基板处理装置还具备:第四配管,其被设置成从上述第三配管分支,该第四配管将通过上述第一配管供给的稀释用液和通过上述第二配管供给的药液的混合液不导入到上述混合罐而排出。
6.根据权利要求1~5中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,
上述第一调整部是电动调压调节器。
7.根据权利要求1~6中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,
上述基板处理装置还具备:第二调整部,其调整流过第二配管的药液的流量。
8.根据权利要求7所述的基板处理装置,其特征在于,
上述第二调整部是电动针阀。
9.根据权利要求1~8中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,
上述第一配管的内径比上述第二配管的内径大。
10.根据权利要求1~9中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,
针对药液的浓度设定第一阈值范围,
上述控制部在通过上述浓度计测量的浓度为上述第一阈值范围以外的情况下,决定稀释用液的流量的修正量。
11.根据权利要求10所述的基板处理装置,其特征在于,
针对药液的浓度设定包含上述第一阈值范围的第二阈值范围,
在通过上述浓度计测量的浓度为上述第二阈值范围以外的情况下,停止基于上述第一配管的稀释用液的供给和基于上述第二配管的药液的供给。
12.根据权利要求1~11中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,
上述第一配管与在设置有上述基板处理装置的工厂中供给稀释用液的设备连接。
13.根据权利要求1~12中的任意一项所述的基板处理装置,其特征在于,
上述基板处理装置还具备:
基板处理部,其对基板进行处理;以及
第五配管,其向上述基板处理部供给贮存在上述混合罐中的混合液,
上述浓度计被设置成测量流过上述第五配管的混合液中的药液的浓度。
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