[发明专利]光刻胶组合物及其制备方法在审
申请号: | 202010460924.5 | 申请日: | 2020-05-27 |
公开(公告)号: | CN111505902A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 胡凡华;卢克军;朴大然;张腾;何卿 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京北旭电子材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 组合 及其 制备 方法 | ||
1.一种光刻胶组合物,其特征在于,包括:酚醛树脂组合物、感光化合物和有机溶剂;
所述酚醛树脂组合物包括:第一线性酚醛树脂、第二线性酚醛树脂和第三线性酚醛树脂;其中,
所述第一线性酚醛树脂的结构通式为式(1):
所述第二线性酚醛树脂的结构通式为式(2):
以及
所述第三线性酚醛树脂的结构通式为式(3):
其中,n1,n2和n3均为正整数,且n1的数值在15~60的范围内,n2的数值在20~200的范围内;n3的数值在20~400的范围内。
2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述第一线性酚醛树脂的质量占所述酚醛树脂组合物总质量的10%~50%;
所述第二线性酚醛树脂的质量占所述酚醛树脂组合物总质量的10%~50%;以及
所述第三线性酚醛树脂的质量占所述酚醛树脂组合物总质量的10%~50%。
3.根据权利要求2所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述第一线性酚醛树脂与所述第二线性酚醛树脂的质量比为(1~2):2;和/或,
所述第一线性酚醛树脂与所述第三线性酚醛树脂的质量比为(1~2):2。
4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述感光化合物的结构通式为式(4):
其中,R1,R2、R3和R4中,至少三个中的任一个的结构式为式(5)或式(6),其余为氢原子;
5.根据权利要求4所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述R1、R2、R3和R4中至少三个的结构式均为式(5),其余为氢原子。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述光刻胶组合物还包括添加剂;
所述酚醛树脂组合物的质量占所述光刻胶组合物总质量的10%~20%;
所述感光化合物的质量占所述光刻胶组合物总质量的1%~10%;
所述有机溶剂的质量占所述光刻胶组合物总质量的70%~85%;
所述添加剂的质量占所述光刻胶组合物总质量的1.5%~10.5%。
7.根据权利要求6所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述添加剂包括增感剂、流平剂和附着力促进剂中的至少一种。
8.根据权利要求7所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述添加剂包括增感剂、流平剂和附着力促进剂;其中,
所述增感剂的质量占所述添加剂总质量的20%~70%;
所述流平剂的质量占所述添加剂总质量的1%~10%;
所述附着力促进剂的质量占所述添加剂总质量的20%~35%。
9.根据权利要求7所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述添加剂的种类选自以下至少一种:
所述添加剂中的所述增感剂的结构式为式(7):
所述添加剂中的所述流平剂包括有机硅类流平剂和含氟表面活性剂中的至少一种;以及,
所述添加剂中的所述附着力促进剂包括密胺树脂、硅烷偶联剂以及超高分子乙烯基醚类化合物中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述有机溶剂包括:丙二醇甲醚乙酸酯、乙二醇单甲醚,丙二醇单甲醚,二乙二醇单甲醚,二乙二醇二甲醚、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸正丁和N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。
11.一种光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,包括:
将酚醛树脂组合物、感光化合物和有机溶剂混合,得到光刻胶组合物;其中,
所述酚醛树脂组合物包括:第一线性酚醛树脂、第二线性酚醛树脂和第三线性酚醛树脂;
所述第一线性酚醛树脂的结构通式为式(1):
所述第二线性酚醛树脂的结构通式为式(2):
所述第三线性酚醛树脂的结构通式为(式3):
其中,n1,n2和n3均为正整数,且n1的数值在15~60的范围内,n2的数值在20~200的范围内;n3的数值在20~400的范围内。
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