[发明专利]光刻胶组合物及其制备方法在审
申请号: | 202010460924.5 | 申请日: | 2020-05-27 |
公开(公告)号: | CN111505902A | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 胡凡华;卢克军;朴大然;张腾;何卿 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京北旭电子材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 组合 及其 制备 方法 | ||
本发明公开一种光刻胶组合物及其制备方法。该光刻胶组合物包括酚醛树脂组合物、感光化合物和有机溶剂。其中酚醛树脂组合物包括:第一线性酚醛树脂、第二线性酚醛树脂和第三线性酚醛树脂。第一线性酚醛树脂具有较高的感光度,第二线性酚醛树脂和第三线性酚醛树脂具有较高的耐热温度。三种酚醛树脂相互配合,协同作用,能够使得光刻胶组合物具有较高的耐热温度的同时,还具有较高的感光度。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种光刻胶组合物及其制备方法。
背景技术
光刻工艺是制作精细图形的一种常见工艺。利用光刻工艺制作精细图形时,需要先在基板上依次形成待刻蚀的膜层和光刻胶层(也可称作光致抗蚀剂),然后对光刻胶层依次进行曝光和显影等工序,获得所需的光刻胶图形。之后,以光刻胶图形作为掩膜(即保护层),对待刻蚀的膜层表面被光刻胶图形露出的区域进行刻蚀,以去除待刻蚀的膜层中位于该区域的部分;剥离残留的光刻胶图形后,即可在待刻蚀的膜层上上形成与光刻胶图形一致的基板图形。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光刻胶组合物及其制备方法,用于使光刻胶组合物具有较高的耐热温度的同时,还具有较高的感光度。
为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
第一方面,本发明提供了一种光刻胶组合物。该光刻胶组合物包括:酚醛树脂组合物、感光化合物和有机溶剂。
所述酚醛树脂组合物包括:第一线性酚醛树脂、第二线性酚醛树脂和第三线性酚醛树脂;其中,
所述第一线性酚醛树脂的结构通式为(式1):
所述第二线性酚醛树脂的结构通式为式(2):
所述第三线性酚醛树脂的结构通式为式(3):
其中,n1,n2和n3均为正整数,且n1的数值在15~60的范围内,n2的数值在20~200的范围内;n3的数值在20~400的范围内。
示例的,所述第一线性酚醛树脂的质量占所述酚醛树脂组合物总质量的10%~50%;
所述第二线性酚醛树脂的质量占所述酚醛树脂组合物总质量的10%~50%;
所述第三线性酚醛树脂的质量占所述酚醛树脂组合物总质量的10%~50%。
具体的,所述第一线性酚醛树脂与所述第二线性酚醛树脂的质量比为(1~2):2;和/或,
所述第一线性酚醛树脂与所述第三线性酚醛树脂的质量比为(1~2):2。
示例的,所述感光化合物的结构通式为式(4):
其中,R1,R2、R3和R4中,至少三个中的任一个的结构式为式(5)或式(6),其余为氢原子;
具体的,所述R1、R2、R3和R4中至少三个的结构式为式(5),其余为氢原子。
作为一种示例,光刻胶组合物还包括添加剂;
所述酚醛树脂组合物的质量占所述光刻胶组合物总质量的10%~20%;
所述感光化合物占所述光刻胶组合物总重量的1%~10%;
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