[发明专利]掩膜版及掩膜组

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括掩膜版本体和遮光件，所述掩膜版本体包括曝光区和位于所述曝光区两侧的拼接区，所述掩膜版本体具有掩膜图形区域；

所述遮光件包括用于遮挡所述掩膜图形区域的第一遮光件和第二遮光件；

所述第一遮光件与所述曝光区对应设置，并可相对于所述曝光区移动，以改变所述掩膜图形区域在所述曝光区内的遮挡区域；

所述第二遮光件与所述拼接区对应设置，并可相对于所述拼接区移动，以改变所述掩膜图形区域在所述拼接区内的遮挡区域；

所述第一遮光件在所述掩膜版本体横向上的长度与所述曝光区在该方向上的长度相匹配；所述第二遮光件在所述掩膜版本体横向上的长度与所述拼接区在该方向上的长度相匹配。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光件的移动范围为从所述掩膜图形区域外侧至所述掩膜图形区域内部，以改变所述遮光件对于所述掩膜图形区域的遮挡区域的大小。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第一遮光件可沿所述掩膜版本体的纵向相对所述曝光区移动，所述第二遮光件可沿所述掩膜版本体的纵向相对于所述拼接区移动。

4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光件在所述掩膜版本体纵向上的长度大于或等于所述掩膜图形区域在该方向上长度的三分之一。

5.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光件在所述掩膜版本体纵向上的长度小于或等于所述掩膜图形区域在该方向上的长度。

6.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜图形区域包括多个沿所述掩膜版本体的横向交错分布的透光部和不透光部，所述曝光区内相邻所述不透光部之间的间距与所述拼接区中相邻所述不透光部之间的间距相等。

7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，所述透光部和所述不透光部均为沿所述掩膜版本体的纵向延伸的条纹。

8.根据权利要求1-5任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述遮光件设置于所述掩膜版本体的透明基板内；

或者，所述遮光件位于所述掩膜版本体之外。

9.一种掩膜组，其特征在于，包括至少两个如权利要求1-8任一项所述的掩膜版，相邻两个所述掩膜版在所述掩膜版的纵向上位置彼此错开，所述掩膜版的拼接区在扫描方向上的投影与相邻掩膜版的拼接区相互重合，以使相邻两个所述掩膜版在所述掩膜版的横向上相互接续。