[发明专利]掩膜版及掩膜组

说明书

本发明提供一种掩膜版及掩膜组，其中，掩膜版包括掩膜版本体和遮光件，掩膜版本体包括曝光区和位于曝光区两侧的拼接区，掩膜版本体具有掩膜图形区域，遮光件包括用于遮挡掩膜图形区域的第一遮光件和第二遮光件，第一遮光件与曝光区对应设置，并可相对于曝光区移动，以改变掩膜图形区域在曝光区内的遮挡区域，第二遮光件与拼接区对应设置，并可相对于拼接区移动，以改变掩膜图形区域在拼接区内的遮挡区域，从而能够调节掩膜版本体的开口率大小，能够改善现有的掩膜组由于光源之间存在误差而导致的Mura问题。

技术领域

本发明涉及液晶显示器的制作技术领域，尤其涉及一种掩膜版及掩膜组。

背景技术

随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄、无辐射等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流，在液晶显示面板的制作过程中，对配向膜进行配向是一项重要工艺，通过配向工艺来实现液晶分子按照特定的方向与角度排列。

目前，用于光配向的掩膜版的尺寸一般小于市场上液晶显示器的尺寸，因此在实际生产中，需要将多个掩膜版组合起来同时工作，现有的掩膜版一般采用7+6拼接方式，即下方有7块掩膜版，上方有6块掩膜版，形成两排掩膜版，且两排掩膜版交错分布，因此每块掩膜版都包括正常曝光区和连续区，每块掩膜版都有自己独立的光源。

由于每一个光源之间都存在或多或少的误差，因此，当基板由下至上依次经过下排掩膜版和上排掩膜版时，由于光源之间的亮度差，会使得正常曝光区在基板上的投影与拼接区在基板上的投影的颜色不一致，即会导致基板出现亮度不均匀的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种掩膜版及掩膜组，能够改善现有的掩膜组由于光源之间存在误差而导致的Mura问题。

一方面，本发明提供一种掩膜版，包括掩膜版本体和遮光件，掩膜版本体包括曝光区和位于曝光区两侧的拼接区，掩膜版本体具有掩膜图形区域，遮光件包括用于遮挡掩膜图形区域的第一遮光件和第二遮光件，第一遮光件与曝光区对应设置，并可相对于曝光区移动，以改变掩膜图形区域在曝光区内的遮挡区域，第二遮光件与拼接区对应设置，并可相对于拼接区移动，以改变掩膜图形区域在拼接区内的遮挡区域。

作为一种可选的实施方式，遮光件的移动范围为从掩膜图形区域外侧至掩膜图形区域内部，以改变遮光件对于掩膜图形区域的遮挡区域的大小。

作为一种可选的实施方式，第一遮光件可沿掩膜版本体的纵向相对曝光区移动，第二遮光件可沿掩膜版本体的纵向相对于拼接区移动。

作为一种可选的实施方式，第一遮光件在掩膜版本体横向上的长度与曝光区在该方向上的长度相匹配；第二遮光件在掩膜版本体横向上的长度与拼接区在该方向上的长度相匹配。

作为一种可选的实施方式，遮光件在掩膜版本体纵向上的长度大于或等于掩膜图形区域在该方向上长度的三分之一。

作为一种可选的实施方式，遮光件在掩膜版本体纵向上的长度小于或等于掩膜图形区域在该方向上的长度。

作为一种可选的实施方式，掩膜图形区域包括多个沿掩膜版本体的横向交错分布的透光部和不透光部，曝光区内相邻不透光部之间的间距与拼接区中相邻不透光部之间的间距相等。

作为一种可选的实施方式，透光部和不透光部均为沿掩膜版本体的纵向延伸的条纹。

作为一种可选的实施方式，遮光件设置于掩膜版本体的透明基板内；

或者，遮光件位于掩膜版本体之外。

另一方面，本发明提供一种掩膜组，包括至少两个上述的掩膜版，相邻两个掩膜版在掩膜版的纵向上位置彼此错开，掩膜版的拼接区在扫描方向上的投影与相邻掩膜版的拼接区相互重合，以使相邻两个掩膜版在掩膜版的横向上相互接续。