[发明专利]用于显示器应用的纹理化盖组件

权利要求书

1.一种电子设备，包括：

外壳；

显示器，所述显示器至少部分地定位在所述外壳内；和

定位在所述显示器上方并且耦接到所述外壳的盖组件，所述盖组件具有纹理化区域并且包括：

玻璃盖构件，所述玻璃盖构件具有限定山部和谷部的表面，所述山部和谷部被配置为漫反射来自所述纹理化区域的可见光，所述山部限定峰部的组，所述峰部的组具有在所述峰部的组中的相邻的峰部之间的平均节距；和

透明无机涂层，所述透明无机涂层覆盖所述山部和所述谷部并且被配置为在从所述透明无机涂层反射的可见光与从所述山部的至少一部分和所述谷部的至少一部分反射的可见光之间产生相消干涉；和

衍射层，所述衍射层定位在所述盖组件和所述显示器之间并且被配置为投射与由所述显示器的像素阵列中的像素生成的光对应的多个图像，所述多个图像中的相邻的图像被偏移小于所述平均节距的距离。

2.根据权利要求1所述的电子设备，其中，所述盖组件的纹理化区域具有：

大于或等于10％的漫反射率；以及

小于或等于40％的透射雾度。

3.根据权利要求1所述的电子设备，其中，

所述平均节距为5微米至25微米。

4.根据权利要求1所述的电子设备，其中，所述盖组件的纹理化区域的反射率在可见光光谱范围内的总和小于10％。

5.根据权利要求1所述的电子设备，其中，所述透明无机涂层在所述山部和所述谷部上方的厚度是均匀的，其变化在5％内。

6.根据权利要求1所述的电子设备，其中，所述玻璃盖构件还包括压应力层，所述压应力层从限定所述山部和谷部的表面延伸到所述玻璃盖构件中。

7.一种电子设备，包括：

外壳；

耦接到所述外壳并限定外表面的盖组件，所述盖组件包括：

限定表面特征部组的玻璃盖构件，所述表面特征部组具有：

大于零且小于2微米的均方根高度；和

大于所述均方根高度且小于20微米的平均节距；和

涂层，所述涂层覆盖所述表面特征部组并且包括多个无机介电层，所述多个无机介电层被配置为引起从所述涂层反射的光与从所述玻璃盖构件反射的光之间的相消干涉；

显示器，所述显示器被定位在所述盖组件下方并且被配置为显示能够透过所述表面特征部组和所述涂层被观察到的图形输出；和

衍射层，所述衍射层定位在所述盖组件和所述显示器之间并且被配置成使得与所述衍射层结合的所述盖组件产生小于或等于10％的闪光度。

8.根据权利要求7所述的电子设备，其中，

所述涂层的厚度是均匀的，其变化在10％内，

包括所述涂层的所述盖组件的区域的反射率在可见光光谱范围内的总和小于10％，并且

所述盖组件具有大于或等于40％的清晰度。

9.根据权利要求7所述的电子设备，其中，

所述显示器具有大于每英寸130个像素的分辨率。

10.根据权利要求7所述的电子设备，其中，所述多个无机介电层包括：

包含第一无机介电材料的第一层，所述第一无机介电材料具有第一折射率，所述第一折射率小于所述玻璃盖构件的折射率；以及

包含第二无机介电材料的第二层，所述第二无机介电材料具有第二折射率，所述第二折射率大于所述玻璃盖构件的所述折射率。

11.根据权利要求7所述的电子设备，其中，所述涂层具有在100纳米至500纳米范围内的厚度。

12.根据权利要求7所述的电子设备，其中，所述涂层被配置为使得所述盖组件的外表面在可见光光谱上具有中性反射率。