[发明专利]用于显示器应用的纹理化盖组件有效

专利信息
申请号: 202010465739.5 申请日: 2020-05-28
公开(公告)号: CN112020249B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 顾明霞;J·C·凯雷兹泰斯;齐军;朴正旭;V·H·殷;李妍明 申请(专利权)人: 苹果公司
主分类号: H05K5/02 分类号: H05K5/02;H05K5/00
代理公司: 北京市汉坤律师事务所 11602 代理人: 魏小薇;吴丽丽
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 显示器 应用 纹理 组件
【说明书】:

本公开涉及用于显示器应用的纹理化盖组件。本文公开了用于电子设备的纹理化盖组件。纹理化盖组件可被放置在显示器上方,并且可向电子设备提供抗眩光属性和抗反射属性。

技术领域

本文描述的实施方案整体涉及用于电子设备的纹理化壳体部件。更具体地,本实施方案涉及用于显示器上方并且具有抗眩光属性和抗反射属性的纹理化盖组件。

背景技术

电子设备可包括在显示器、相机或其他设备部件上方的玻璃盖构件。在一些情况下,纹理或抗反射涂层可被施加到玻璃盖构件以提供特定光学效果。

发明内容

本公开提供了纹理化盖组件,该纹理化盖组件可提供抗眩光属性和抗反射属性两者。该纹理化盖组件可被包括在用于电子设备的壳体中。本文还公开了包括纹理化盖组件的电子设备。

当设置在显示器上方时,纹理化盖组件可通过降低由来自覆盖件的反射形成的图像的亮度和清晰度来改善来自显示器的输出的可见度。纹理化盖组件还可限制闪光效应,以便进一步改善来自显示器的输出的可读性。

本公开提供了一种电子设备,该电子设备包括外壳、至少部分地定位在外壳内的显示器,以及定位在显示器上方并且耦接到外壳的盖组件。盖组件具有纹理化区域并且包括玻璃盖构件,该玻璃盖构件具有限定山部和谷部的表面,该山部和谷部被配置为漫反射来自纹理化区域的可见光。该盖组件还包括透明无机涂层,该透明无机涂层覆盖山部和谷部,并且被配置为在从透明无机涂层反射的可见光与从山部的至少一部分和谷部的至少一部分反射的可见光之间产生相消干涉。

此外,本公开提供了一种电子设备,该电子设备包括外壳、耦接到外壳并限定外表面的盖组件,以及定位在盖组件下方并被配置为显示透过表面特征部和涂层可以看见的图形输出的显示器。该盖组件包括限定表面特征部组的玻璃盖构件,该表面特征部组具有大于零且小于约2微米的均方根高度和大于均方根高度且小于约20微米的平均节距。该盖组件还包括覆盖表面特征部并且包括多个无机介电层的涂层。该涂层可被配置为引起从涂层反射的光与从玻璃盖构件反射的光之间的相消干涉。在一些实施方案中,涂层可使得盖组件的外表面在可见光光谱上具有中性反射率。

本公开还提供了一种电子设备,该电子设备包括至少部分地限定电子设备的内部体积的外壳、至少部分地定位在内部体积内的显示器,以及定位在显示器上方并且耦接到外壳的盖组件。该盖组件包括玻璃盖构件和抗反射涂层,该抗反射涂层适形于突起部和基板表面并且包括无机介电材料。该玻璃盖构件限定基板表面,突起部组从基板表面向外延伸并且被布置成使得该突起部组中的至少两个相邻突起部沿着基板表面彼此间隔开,该突起部组中的每个突起部具有介于约1微米至约25微米之间的宽度以及大于零且小于约2微米的高度。

附图说明

本公开通过下面结合附图的具体描述将更易于理解,其中类似的附图标记表示类似的元件。

图1示出了电子设备的前视图。

图2A示出了电子设备的横截面视图的示例。

图2B示出了图2A的盖组件的示例详细视图。

图3示出了电子设备的横截面视图的另一示例。

图4示出了电子设备的横截面视图的另一示例。

图5示出了盖组件的示例的横截面视图。

图6示出了盖组件的另一示例的横截面视图。

图7示出了盖组件的附加示例的横截面视图。

图8示出了盖组件的另一示例的横截面视图。

图9示出了盖组件的示例的顶视图。

图10示出了盖组件的另一示例的顶视图。

图11示出了盖组件的附加示例的顶视图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苹果公司,未经苹果公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010465739.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top