[发明专利]基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法有效
申请号: | 202010467764.7 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN111628045B | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 朱辉;成秋云;黄心沿;刘帅;肖洁;吴得轶 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/66;H01L21/677;C23C16/50;C23C16/52;C23C16/54 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 镀膜 检测 pecvd 表面 上下 方法 | ||
1.一种基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、石墨舟就位:经过插取片机插好片的石墨舟(1)通过传送机构移动至PECVD的净化台下方;
S2、石墨舟上缓存架:机械手抓取石墨舟(1)放到净化台的缓存架(2)上等待,缓存架(2)上设有多个缓存位(21),所述缓存位(21)用于放置石墨舟(1),所述缓存架(2)的每个缓存位(21)对应设有镀膜检测装置(5);
S3、进舟前镀膜检测:对缓存架(2)上的各石墨舟(1)内的硅片进行是否有镀膜的检测,如无镀膜,反馈给机械手,待反应室(3)有空位,机械手抓取缓存架(2)上无镀膜的石墨舟(1)放到推舟机构(4)上;
S4、石墨舟进反应室:推舟机构(4)将石墨舟(1)送入反应室(3),进行镀膜工艺;
S5、石墨舟出反应室:工艺结束,推舟机构(4)进入反应室(3)取出石墨舟(1),机械手抓取工艺后的石墨舟(1)放至缓存架(2)上冷却;
S6、取片前镀膜检测:冷却结束,对缓存架(2)上的各石墨舟(1)内的硅片进行是否有镀膜的检测,如有镀膜,反馈给机械手,机械手抓取缓存架(2)上有镀膜的石墨舟(1)放至净化台下方的传送机构上;
S7、石墨舟返回插取片机:传送机构将石墨舟(1)送回插取片机进行取片,并进入下一工序。
2.根据权利要求1所述的基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法,其特征在于,所述步骤S3中,镀膜的检测之后,对无镀膜的各石墨舟(1)进行计时,并反馈给机械手,待反应室(3)有空位,机械手抓取计时先结束的无镀膜的石墨舟(1)放到推舟机构(4)上;所述步骤S6中,镀膜的检测之后,对有镀膜的各石墨舟(1)石墨舟进行计时,并反馈给机械手,机械手抓取计时先结束的有镀膜的石墨舟(1)放在传送机构上。
3.根据权利要求1所述的基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法,其特征在于,所述步骤S3和步骤S6中,镀膜检测方法为:检测探头(52)伸入缓存架(2)上的石墨舟(1)内相邻两个舟片(11)之间,检测舟片(11)上的硅片的颜色,若颜色为灰色表示没有镀膜,否则就是有镀膜。
4.根据权利要求3所述的基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法,其特征在于,所述缓存架(2)的每个缓存位(21)对应设有镀膜检测装置(5),所述镀膜检测装置(5) 包括升降驱动(51)和所述检测探头(52),所述升降驱动(51)固定在缓存位(21)处,所述检测探头(52)设于升降驱动(51)的驱动端,并在升降驱动(51)的带动下插入石墨舟(1)内。
5.根据权利要求4所述的基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法,其特征在于,所述升降驱动(51)为升降气缸,所述检测探头(52)通过探头支架(53)固定在升降气缸的活塞杆上。
6.根据权利要求4所述的基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法,其特征在于,所述镀膜检测装置(5)还包括光源(54),所述光源(54)设于探头支架(53)安装检测探头(52)的这一端。
7.根据权利要求4所述的基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法,其特征在于,所述镀膜检测装置(5)设于缓存位(21)的一端部,且位于缓存位(21)上石墨舟(1)的下方,检测时,升降驱动(51)带动检测探头(52)上升插入石墨舟(1)内。
8.根据权利要求1至7任意一项所述的基于镀膜检测的PECVD表面镀膜的上下料方法,其特征在于,所述推舟机构(4)上设置辅助支撑(7),所述辅助支撑(7)包括支撑座(71)和支撑杆(72),所述支撑座(71)固定在推舟机构(4)的水平移动模组(41)的下方,所述支撑杆(72)安装在支撑座(71)上,所述推舟机构(4)的推舟桨(42)悬空一端可搭在支撑杆(72)上。
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