[发明专利]基板载具、基板载具阵列和气相沉积装置在审
申请号: | 202010469663.3 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN111471983A | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 王玉明;陈晖;程海良;谢利华;李旺鹏;叶继春;曾俞衡;廖明墩;闫宝杰 | 申请(专利权)人: | 苏州拓升智能装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/503;H01L21/687 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 215100 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板载具 阵列 和气 沉积 装置 | ||
1.一种基板载具,其特征在于,包括:
第一载板;
第二载板,所述第二载板与所述第一载板的外轮廓相同,所述第二载板为中空框架状,所述第二载板在垂直于所述第一载板的方向上与所述第一载板平行重叠设置;
支撑部,设置在所述第一载板与所述第二载板之间,以使所述第一载板与所述第二载板相互间隔,所述支撑部与所述第一载板和所述第二载板之间形成有适于取放基板的开口。
2.根据权利要求1所述的基板载具,其特征在于,所述第一载板和所述第二载板的外轮廓呈矩形。
3.根据权利要求2所述的基板载具,其特征在于,所述支撑部为围绕所述第一载板和所述第二载板的矩形外轮廓的至少一个侧边的侧壁,以在所述第一载板和所述第二载板剩余侧边形成所述开口。
4.根据权利要求1所述的基板载具,其特征在于,所述第一载板、所述第二载板和所述支撑部呈一体状。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的基板载具,其特征在于,所述第一载板为中空框架状。
6.根据权利要求5所述的基板载具,其特征在于,还包括:
第三载板,所述第三载板与所述第一载板和所述第二载板的外轮廓相同,所述第三载板设置在所述第一载板和所述第二载板之间,且与所述第一载板和所述第二载板平行重叠设置,所述第三载板与所述第一载板和所述第二载板相互间隔,以将所述开口分隔为适于取放基板的两个开口。
7.根据权利要求6所述的基板载具,其特征在于,所述第一载板、所述第二载板、所述第三载板和所述支撑部呈一体状。
8.根据权利要求6所述的基板载具,其特征在于,所述第三载板为中空框架状。
9.一种基板载具阵列,其特征在于,包括:
多个根据权利要求1-8中任一项所述的基板载具;
其中,多个所述基板载具具有相同外轮廓,多个所述基板载具在同一平面上以2*n的阵列排列,所述开口设置在所述基板载具阵列的列方向上的两侧,其中n为大于或等于1的整数。
10.一种气相沉积装置,其特征在于,包括根据权利要求9所述的基板载具阵列。
11.根据权利要求10所述的气相沉积装置,其特征在于,所述基板载具阵列为多个,多个所述基板载具阵列平行重叠间隔设置。
12.根据权利要求10或11所述的气相沉积装置,其特征在于,所述基板载具阵列水平设置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的