[发明专利]一种静电检测装置和静电检测系统有效
申请号: | 202010469726.5 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN111610383B | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 陈建荣;林满育;薛小利;梁秀 | 申请(专利权)人: | 厦门天马微电子有限公司 |
主分类号: | G01R29/12 | 分类号: | G01R29/12;G01R29/24;G01N21/95 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 361101 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 静电 检测 装置 系统 | ||
1.一种静电检测装置,其特征在于,包括衬底以及位于所述衬底一侧的静电检测结构,所述静电检测结构包括多个静电检测单元;
所述静电检测单元包括至少一个第一导电膜、第二导电膜以及分别连接所述第一导电膜和所述第二导电膜的介质;所述第一导电膜和所述第二导电膜均为孤立导电膜;
所述第一导电膜包括相互连接的第一导电本体部和第一放电部,所述第一放电部位于靠近所述第二导电膜的一侧;所述第一放电部包括至少一个第一放电分支,所述第一放电分支、所述介质和所述第二导电膜形成一条放电路径;
所述第一放电分支包括靠近所述第一导电本体部一侧的第一端和靠近所述第二导电膜一侧的第二端,沿第一方向,所述第一端的延伸长度大于所述第二端的延伸长度;其中,所述第一方向与所述第一导电膜指向所述第二导电膜的方向垂直;
所述第二导电膜包括第二导电本体部,所述第二导电本体部包括相对设置的第三端和第四端;
所述第二导电膜还包括位于所述第三端远离所述第二导电本体部一侧的第二放电部,和/或,位于所述第四端远离所述第二导电本体部一侧的第三放电部;
所述第二放电部包括至少一个第二放电分支,所述第二放电分支包括靠近所述第二导电本体部一侧的第五端和远离所述第二导电本体部一侧的第六端,沿第二方向,所述第五端的延伸长度大于所述第六端的延伸长度;其中,所述第二方向与所述第一导电膜指向所述第二导电膜的方向平行;
所述第三放电部包括至少一个第三放电分支,所述第三放电分支包括靠近所述第二导电本体部一侧的第七端和远离所述第二导电本体部一侧的第八端,沿所述第二方向,所述第七端的延伸长度大于所述第八端的延伸长度。
2.根据权利要求1所述的静电检测装置,其特征在于,所述第一导电膜为条形结构,所述第二导电膜为条形结构;
在所述静电检测装置的传送过程中,在所述衬底远离所述静电检测结构的一侧表面摩擦产生静电;
所述第一导电膜的长边延伸方向与所述静电检测装置的传送方向平行,所述第二导电膜的长边延伸方向与所述静电检测装置的传送方向垂直;
或者,所述第一导电膜的长边延伸方向与所述静电检测装置的传送方向垂直,所述第二导电膜的长边延伸方向与所述静电检测装置的传送方向平行。
3.根据权利要求1所述的静电检测装置,其特征在于,所述静电检测装置的传送装置包括升降平台和吸附结构,所述升降平台上设置有多个支撑杆;
在所述静电检测装置的传送过程中,所述支撑杆与所述衬底远离所述静电检测结构的一侧表面接触,所述吸附结构与所述衬底远离所述静电检测结构的一侧表面接触;
所述支撑杆在所述衬底上的垂直投影与所述第一导电膜在所述衬底上的垂直投影至少部分交叠;
所述吸附结构在所述衬底上的垂直投影与所述第一导电膜在所述衬底上的垂直投影至少部分交叠。
4.根据权利要求3所述的静电检测装置,其特征在于,所述支撑杆在所述衬底上的垂直投影与所述第一导电本体部在所述衬底上的垂直投影至少部分交叠;
所述吸附结构在所述衬底上的垂直投影与所述第一导电本体部在所述衬底上的垂直投影至少部分交叠。
5.根据权利要求1所述的静电检测装置,其特征在于,所述静电检测单元包括多个第一导电膜,每个所述第一导电膜沿第二方向延伸,多个所述第一导电膜沿所述第一方向依次排列;所述第二方向与所述第一方向相交;
所述第二导电膜沿所述第一方向延伸,且多个所述第一导电膜在设定平面上的垂直投影均位于所述第二导电膜的范围内;其中,所述设定平面与所述第二方向垂直,且所述设定平面经过所述第二导电膜。
6.根据权利要求1-5任一项所述的静电检测装置,其特征在于,多个所述静电检测单元至少包括第一静电检测单元和第二静电检测单元;
所述第一静电检测单元中至少一个第一导电膜和第二导电膜之间的间距为第一间距;
所述第二静电检测单元中至少一个第一导电膜和第二导电膜之间的间距为第二间距;
沿所述第二方向,所述第一间距和所述第二间距不同。
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