[发明专利]测试结构及测试方法

权利要求书

1.一种测试结构，其特征在于，包括：

基底；

位于所述基底上的待测第一导电层，所述待测第一导电层内具有若干第一隔断；

位于所述基底上相互平行排列的多个待测第二导电层，每个所述待测第二导电层内均具有若干第二隔断，且至少一个待测第二导电层与待测第一导电层电连接；

位于所述基底上相互平行排列的若干第一导电层，每个所述第一导电层与待测第二导电层电连接；

与所述待测第一导电层电连接的第一测试端；

与一个所述第一导电层电连接的第二测试端。

2.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，各所述第一导电层与待测第一导电层平行。

3.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述第一隔断的数量为一个以上。

4.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述待测第一导电层在所述待测第二导电层上层，或者所述待测第一导电层在所述待测第二导电层下层；所述待测第一导电层与所述待测第二导电层通过第一插塞电连接。

5.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，所述待测第二导电层在所述第一导电层上层，或者所述待测第二导电层在所述第一导电层下层；各所述待测第二导电层与各第一导电层通过第二插塞电连接。

6.如权利要求5所述的测试结构，其特征在于，所述第二隔断的数量为一个以上。

7.如权利要求6所述的测试结构，其特征在于，当所述第二隔断的数量为多个时，各所述待测第二导电层内相邻第二隔断之间间隔两个第二插塞。

8.如权利要求7所述的测试结构，其特征在于，相邻待测第二导电层内的第二隔断，沿垂直于待测第二导电层延伸方向上的中线不重合。

9.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，还包括：第二导电层，所述第二导电层与距离待测第一导电层最远的第一导电层电连接，且所述第二测试端与所述第二导电层电连接。

10.如权利要求9所述的测试结构，其特征在于，所述第二导电层与所述待测第二导电层平行。

11.如权利要求1所述的测试结构，其特征在于，还包括：与一个所述待测第二导电层电连接的第三测试端。

12.一种测试方法，其特征在于，包括：

提供测试结构，所述测试结构包括：基底；位于所述基底上的待测第一导电层，所述待测第一导电层内具有若干第一隔断；位于所述基底上相互平行排列的多个待测第二导电层，每个所述待测第二导电层内均具有若干第二隔断，且至少一个待测第二导电层与待测第一导电层电连接；位于所述基底上相互平行排列的若干第一导电层，每个所述第一导电层与待测第二导电层电连接；与所述待测第一导电层电连接的第一测试端；与一个所述第一导电层电连接的第二测试端；

获得第一测试端和第二测试端之间的第一测量值。

13.如权利要求12所述的测试方法，其特征在于，还包括：根据所述第一测量值，获得第一隔断和第二隔断的信息。

14.如权利要求13所述的测试方法，其特征在于，根据所述第一测量值，获得第一隔断和第二隔断的信息的方法包括：提供预设第一测量值和预设第二测量值；根据所述第一测量值与预设第一测量值或预设第二测量值进行比较，获取所述第一隔断和第二隔断的信息。

15.如权利要求14所述的测试方法，其特征在于，所述预设第二测量值大于所述预设第一测量值。

16.如权利要求15所述的测试方法，其特征在于，当所述第一测量值在所述预设第一测量值的范围内时，所述第一隔离具有缺陷，且所述第二隔断具有缺陷。