[发明专利]一种绝缘聚酰亚胺薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种绝缘聚酰亚胺薄膜，其特征在于，其原料包括：二胺单体、二酐单体和八(氨基苯基三氧硅烷)，其中，二胺单体为9,9-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]芴和含氟二胺，二酐单体为均苯四甲酸二酐和含氟二酐。

2.根据权利要求1所述绝缘聚酰亚胺薄膜，其特征在于，含氟二酐为4,4'-(六氟异丙烯)二酞酸酐。

3.根据权利要求1或2所述绝缘聚酰亚胺薄膜，其特征在于，含氟二胺为2,2-双(3-氨基-4-羟基苯基)-六氟丙烷。

4.根据权利要求1-3任一项所述绝缘聚酰亚胺薄膜，其特征在于，9,9-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]芴和含氟二胺的摩尔比为0.6-0.7:0.3-0.4。

5.根据权利要求1-4任一项所述绝缘聚酰亚胺薄膜，其特征在于，均苯四甲酸二酐和含氟二酐的摩尔比为0.5-0.6:0.4-0.5。

6.根据权利要求1-5任一项所述绝缘聚酰亚胺薄膜，其特征在于，八(氨基苯基三氧硅烷)占二胺单体和二酐单体总重量的4-5％。

7.根据权利要求1-6任一项所述绝缘聚酰亚胺薄膜，其特征在于，二胺单体和二酐单体的摩尔比为1:0.9-1。

8.一种如权利要求1-7任一项所述绝缘聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：在惰性气体氛围中，将二胺单体和有机溶剂混匀，然后加入二酐单体，进行反应，然后加入八(氨基苯基三氧硅烷)溶液，继续反应得到中间物料；取中间物料脱泡并涂布于基板表面，亚胺化，脱膜得到绝缘聚酰亚胺薄膜。

9.根据权利要求8所述绝缘聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，亚胺化的程序为：升温至100-110℃，保温1h；然后升温至200-210℃，保温0.5h；然后升温至300-310℃，保温20min；然后升温至350℃，保温10min。

10.根据权利要求8或9所述绝缘聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，室温反应5-7h，然后加入八(氨基苯基三氧硅烷)溶液，继续反应1.5-2h得到中间物料；优选地，有机溶剂为N,N-二甲基乙酰胺。