[发明专利]曝光装置及其使用方法

说明书

本发明公开了一种曝光装置及其使用方法，涉及显示面板制造技术领域，包括光源、掩膜版和光路补偿单元，光路补偿单元设置于掩膜版远离光源的一侧，掩膜版上设置有掩膜图案；光路补偿单元包括第一子补偿单元和/或第二子补偿单元，第一子补偿单元包括具有中空结构的密闭组件，中空结构中设置第一填充物，第一填充物用于改变密闭组件的压强，并改变光路补偿单元的折射率；第二子补偿单元包括一透光结构，透光结构靠近和/或远离掩膜版的一侧表面设置有薄膜层，薄膜层和透光结构用于改变光路补偿单元的折射率。通过对光路补偿单元折射率的调控，改变于基板上所成像的大小，使所得到的转印图形相比掩膜版图案增大或减小；有利于曝光装置的使用局限性。

技术领域

本发明涉及显示面板制造技术领域，更具体地，涉及一种曝光装置及其使用方法。

背景技术

随着显示技术的发展，显示领域对显示设备的分辨率要求越来越高。现有技术中，在显示面板的制造过程中，受到曝光设备成本和掩膜版设计规范等因素的限制，曝光工艺的精度和分辨率的提升非常困难。无论是通过采用掩膜版方法转印图形的液晶显示、驱动芯片制作以及电路板制造等，都会存在通过曝光装置所得到的转印图形只能为和掩膜版图形大小相同的问题，因此，亟待发明一种曝光装置，使得在不改变掩膜版结构的情况下，实现转印图形相对于掩膜图案大小的改变。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种曝光装置及其使用方法，用以改善通过曝光装置所得到的转印图形只能与掩膜图案大小相同的问题。

第一方面，本申请提供一种曝光装置，包括光源、掩膜版和光路补偿单元，所述光路补偿单元设置于所述掩膜版远离所述光源的一侧，所述掩膜版上设置有掩膜图案；

所述光路补偿单元包括第一子补偿单元和/或第二子补偿单元，其中，所述第一子补偿单元包括一具有中空结构的密闭组件，所述中空结构中设置有第一填充物，所述第一填充物用于改变所述密闭组件的压强，并改变所述光路补偿单元的折射率；

所述第二子补偿单元包括一透光结构，所述透光结构靠近和/或远离所述掩膜版的一侧表面设置有薄膜层，所述薄膜层和所述透光结构用于改变所述光路补偿单元的折射率。

第二方面，本申请提供了一种曝光装置的使用方法，应用于所述曝光装置；

所述曝光装置用于在转印基板上形成转印图形，所述转印基板设置于光路补偿单元远离掩膜版的一侧；

所述方法包括：

打开所述光源，使所述光源发出的光线经所述掩膜版和所述光路补偿单元；

所述光路补偿单元使所述掩膜版的掩膜图案在所述转印基板上形成所述转印图形。

与现有技术相比，本发明提供的一种曝光装置及其使用方法，至少实现了如下的有益效果：

本申请通过在现有曝光装置的基础上，提供一光路补偿单元设置于现有曝光装置中的掩膜版远离光源的一侧，通过对光路补偿单元折射率的调控，改变掩膜版图案所成像的大小，使得通过曝光装置所得到的转印图形相比掩膜版图案增大或减小；如此，仅通过对曝光装置的微加工，便提高了曝光装置生产指定转印图形的能力，有利于消除现有技术中曝光装置的使用局限性。

当然，实施本发明的任一产品必不特定需要同时达到以上所述的所有技术效果。

通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述，本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例，并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。

图1所示为本申请实施例提供的曝光装置的一种示意图；

图2所示为本申请实施例提供的曝光装置的另一种示意图；