[发明专利]一种具有双层绝缘层的面板结构及制作方法在审
申请号: | 202010474754.6 | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN111599686A | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 宋爽 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | H01L21/34 | 分类号: | H01L21/34;H01L21/77;H01L29/423;H01L27/12 |
代理公司: | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 林祥翔;徐剑兵 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 双层 绝缘 面板 结构 制作方法 | ||
本发明公布一种具有双层绝缘层的面板结构及制作方法,其中制作方法包括如下步骤:在基板上制作栅极;制作第一绝缘层;在栅极区域的第一绝缘层上制作孔,孔的底部为栅极;制作第二绝缘层,第二绝缘层覆盖第一绝缘层上的孔底部的栅极;在第二绝缘层上制作半导体层,半导体层位于第一绝缘层上的孔处;在半导体层上制作源极和漏极。上述技术方案通过减薄栅极区域的第一绝缘层的膜厚度,减薄后让第二绝缘层覆盖在栅极上,从而缩减栅极与源漏极之间的间距。缩减栅极与源漏极之间的间距后,可以提高开启电流Ion,从而达到减小面板功耗的目的,对面板的续航能力有一个较好的提升。
技术领域
本发明涉及显示面板技术领域,尤其涉及一种具有双层绝缘层的面板结构及制作方法。
背景技术
随着显示器技术的发展进步,人们对显示器的品质提出更高的要求,目前达到更好的显示效果已成为未来显示器行业的必然趋势。
IGZO是一种含有铟、镓和锌的非晶氧化物,载流子迁移率是非晶硅的20~30倍,可以大大提高TFT对像素电极的充放电速率,提高像素的响应速度,具备更快的面板刷新频率,低功耗,可实现超高分辨率TFTLCD。同时,IGZO在成本方面较低温多晶硅(LTPS)更有竞争力。
如何在IGZO低功耗的基础上进一步降低功耗,现有方案搭配双层绝缘层的结构,增加栅极与源漏极之间的间距d,从而达到降低电容和减小面板功耗的目的(Cox=εS/4πkd,其中S为交叠面积,d为绝缘层厚度)。但搭配双层绝缘层的同时,会导致器件开启电流Ion的降低,这就让面板需要搭配更大的IC驱动电压,降低面板的功耗受到限制。
发明内容
为此,需要提供一种具有双层绝缘层的面板结构及制作方法,解决降低面板功耗的问题。
为实现上述目的,发明人提供了一种具有双层绝缘层的面板结构制作方法,包括如下步骤:
在基板上制作栅极;
制作第一绝缘层;
在栅极区域的第一绝缘层上制作孔,孔的底部为栅极;
制作第二绝缘层;
制作半导体层,半导体层位于第二绝缘层在第一绝缘层上的孔处;
在半导体层上制作源极和漏极。
进一步地,在基板上制作栅极时,还包括如下步骤:
制作极板一,极板一位于栅极的一侧,极板一作为电容的组成部分;
在制作源极和漏极,源极与漏极连接半导体层时,还包括如下步骤:
制作极板二,极板二位于源极和漏极的一侧,并处于极板一区域的第二绝缘层上,极板二作为电容的组成部分。
进一步地,第一绝缘层在栅极与极板一之间的上表面为平面或者凹陷面。
进一步地,所述在栅极区域的第一绝缘层上制作孔使用的光罩与所述在半导体层上制作源极和漏极使用的光罩相同,所述光罩使得第一绝缘层的形状与源极和漏极相同。
进一步地,所述半导体层为IGZO。
发明人提供一种具有双层绝缘层的面板结构,包括:
基板上的一侧设置有栅极;
在栅极上设置有第一绝缘层,位于栅极区域的第一绝缘层上设置有孔,孔的底部为栅极;
在第一绝缘层上设置有第二绝缘层;
在第二绝缘层上设置有半导体层,半导体层位于第二绝缘层在第一绝缘层上的孔处;
在半导体层上设置有源极和漏极。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造