[发明专利]一种镭雕平台精密升降机构

权利要求书

1.一种镭雕平台精密升降机构，其特征在于：它包括底板（1）和镭雕平台（2），所述底板（1）上固设有多个导向柱（3），镭雕平台（2）设置于底板（1）上方，镭雕平台（2）固设于导向柱（3）的顶端，所述底板（1）的顶表面上设置有纵向设置的丝杆螺母副（4），丝杆螺母副（4）的螺母（5）的左右侧均固设有楔形块I（6），楔形块I（6）的后侧设置有斜面I（7），所述丝杆螺母副（4）的左右侧还分别设置有左导向机构（8）和右导向机构（9），左导向机构（8）和右导向机构（9）关于丝杆螺母副（4）对称设置，右导向机构（9）包括水平导轨（10）、滑块（11）和滑台（12），水平导轨（10）固设于底板（1）上，滑块（11）滑动安装于水平导轨（10）上，滑台（12）固设于滑块（11）的顶部，滑台（12）的左侧固设有支架I（13），支架I（13）上旋转安装有平行于底板（1）的滚轮I（14），滚轮I（14）与斜面I（7）相切，滑台（12）顶部固设有多个楔形块II（15），楔形块II（15）的顶部设置有斜面II（16），斜面II（16）向右倾斜向下设置，所述镭雕平台（2）的底固设有多个与斜面II（16）上下对立的支架II（18），支架II（18）上旋转安装有滚轮II（19），滚轮II（19）与斜面II（16）相切。

2.根据权利要求1所述的一种镭雕平台精密升降机构，其特征在于：所述镭雕平台（2）平行于底板（1）设置。

3.根据权利要求1所述的一种镭雕平台精密升降机构，其特征在于：所述底板（1）上固设有四个导向柱（3），四个导向柱（3）分别固设于底板（1）上。

4.根据权利要求3所述的一种镭雕平台精密升降机构，其特征在于：所述导向柱（3）垂直于底板（1）设置。

5.根据权利要求1所述的一种镭雕平台精密升降机构，其特征在于：所述右导向机构（9）包括两根水平导轨（10），两根水平导轨（10）均固设于底板（1）上，所述滑台（12）滑动安装于两根水平导轨（10）之间。

6.根据权利要求1所述的一种镭雕平台精密升降机构，其特征在于：所述底板（1）的顶表面上固设有立板（20），立板（20）的右端面上固定安装有推料气缸（21），推料气缸（21）活塞杆的作用端上固设有位于镭雕平台（2）上方的推板（22）。

7.根据权利要求6所述的一种镭雕平台精密升降机构，其特征在于：所述镭雕平台（2）的顶表面上还固设有夹持气缸（23）和限位板（24），夹持气缸（23）和限位板（24）均位于推板（22）的左侧，夹持气缸（23）的活塞杆上固设有夹头（25），夹头（25）与限位板（24）相对立设置。