[发明专利]一种简易可溶性的高价锡的还原方法

权利要求书

1.一种简易可溶性的高价锡的还原方法，其特征在于，所述还原方法包括如下步骤：通过输送装置将化锡槽中的化锡原液输送至装有锡单质的过滤装置，在过滤装置中将四价锡转化为二价锡，再将还原后的化锡液输送回化锡槽中循环。

2.根据权利要求1所述的还原方法，其特征在于，所述锡单质为锡条、锡棒、锡球、锡粒和锡粉中的任意一种。

3.根据权利要求1或2所述的还原方法，其特征在于，所述锡单质为锡粉，所述锡粉的粒径为100～1000目。

4.根据权利要求3所述的还原方法，其特征在于，所述锡粉经高分子表面处理。

5.根据权利要求4所述的还原方法，其特征在于，所述锡粉经高分子表面处理后含有有机官能团，分子式为Sn-(OX-R-Y)_n；其中，有机官能团为X、R和Y中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，X为C、N、P或S中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，R为C1-C8烷烃基中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，Y为羟基、氨基、环氧基、羧酸基或醛基中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，n为1、2、3或4。

6.根据权利要求4所述的还原方法，其特征在于，所述高分子表面处理过程为：

1)将锡单质预处理；

2)对预处理的锡清洗；

3)将锡浸入到含有有机官能团的偶联剂溶液中进行高分子表面处理；

4)将经高分子表面处理后的锡单质取出，清洗、抽真空烘干；

优选地，步骤1)中，所述预处理为将锡放入除油槽浸泡1～5min，浸泡温度为40～60℃；

优选地，步骤2)中，所述清洗为去离子水淋洗；

优选地，步骤3)中，所述高分子表面处理的时间为2～10h，温度为50～80℃；

优选地，步骤4)中，所述清洗为先用去离子水多次清洗，再用无水乙醇清洗，所述低真空烘干的温度为70～90℃，所述烘干的时间为10～20h。

7.根据权利要求1-6之一所述的还原方法，其特征在于，1L所述化锡原液中，所述锡单质的质量为1～50g。

8.根据权利要求1-7之一所述的还原方法，其特征在于，所述化锡原液中，四价锡的质量浓度为1～10g/L，二价锡的质量浓度为14～20g/L。

9.根据权利要求1-8之一所述的还原方法，其特征在于，还原后的化锡液中，四价锡的质量浓度为1～5g/L，二价锡的质量浓度为14～16g/L。

10.根据权利要求1-9之一所述的还原方法，其特征在于，所述还原方法包括如下步骤：通过输送装置将化锡槽中的化锡原液输送至装有锡单质的过滤装置，在过滤装置中将四价锡转化为二价锡，再将还原后的化锡液输送回化锡槽中；

其中，1L化锡原液中，所述锡单质的质量为1～50g；

所述锡单质为粒径为100～1000目的锡粉；

所述锡粉经高分子表面处理；

所述化锡原液中，四价锡的质量浓度为1～10g/L，二价锡的质量浓度为10～20g/L；还原后的化锡液中，四价锡的质量浓度为1～5g/L，二价锡的质量浓度为14～16g/L。