[发明专利]一种掩膜板整形装置及掩膜板整形方法、光刻机

说明书

本发明公开了一种掩膜板整形装置及掩膜板整形方法、光刻机。所述掩膜板整形装置包括：透明盖板、支撑固定框、承板台、真空吸附气动系统、恒压气动控制系统以及可控抽真空系统；其中，透明盖板与支撑固定框连接，且覆盖支撑固定框的中空区域；透明盖板和支撑固定框与待整形掩膜板构成密闭腔；承板台用于承载待整形掩膜板的边框区，并吸附固定支撑固定框；真空吸附气动系统用于为承板台提供吸附力；恒压气动控制系统用于维持密闭腔内的气压恒定；可控抽真空系统用于实现密闭腔内流量可控的抽真空。本发明实施例提供的技术方案，避免真空过抽现象发生的同时，保证了密闭腔能够以较短的时间建立目标真空，进而实现了对待整形掩膜板的有效整形。

技术领域

本发明实施例涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种掩膜板整形装置及掩膜板整形方法、光刻机。

背景技术

掩膜板是光刻机的重要组成部分，其特性对光刻效果的影响显著。

随着光刻技术的不断发展，光刻机的光刻范围增大，掩膜板的尺寸相应增大。受自身重力影响，大尺寸掩膜板会发生垂向形变，且最大形变量可达65μm以上，而光刻机中的拼接物镜的可调范围只有+/-15um，无法通过调节拼接物镜的方式补偿掩膜板的形变，此外，现有光刻机的焦深约为7.5μm，掩膜板的自重形变远超焦深，导致成像质量难以保证。

发明内容

本发明提供一种掩膜板整形装置及掩膜板整形方法、光刻机，以有效整形掩膜板受自重影响产生的形变。

第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜板整形装置，包括：

透明盖板、支撑固定框、承板台、真空吸附气动系统、恒压气动控制系统以及可控抽真空系统；

其中，所述透明盖板与所述支撑固定框连接，且覆盖所述支撑固定框的中空区域；所述透明盖板和所述支撑固定框与待整形掩膜板构成密闭腔；

所述承板台用于承载所述待整形掩膜板的边框区，并吸附固定所述支撑固定框；

所述真空吸附气动系统用于为所述承板台提供吸附力；

所述恒压气动控制系统用于维持所述密闭腔内的气压恒定；

所述可控抽真空系统用于实现所述密闭腔内流量可控的抽真空。

第二方面，本发明实施例还提供了一种光刻机，包括上述第一方面所述的掩膜板整形装置。

第二方面，本发明实施例还提供了一种掩膜板整形方法，采用上述第一方面所述的掩膜板整形装置实施，包括：

将待整形掩膜板的边框放置于所述承板台上；

将连接后的所述透明盖板以及所述支撑固定框放置于所述承板台上，以形成所述密闭腔；

控制所述真空吸附气动系统为所述承板台提供吸附力，以吸附固定所述支撑固定框以及所述待整形掩膜板；

控制所述可控抽真空系统以最大流量对所述密闭腔抽真空，直至所述密闭腔内的负压达到阈值，其中，所述阈值与所述密闭腔的目标真空之差小于预设差值；

减小所述可控抽真空系统的流量，控制所述可控抽真空系统以减小后的流量对所述密闭腔抽真空，直至所述密闭腔内的负压达到所述目标真空；

控制所述恒压气动控制系统维持所述密闭腔的气压恒定。

本发明实施例提供的技术方案，通过设置透明盖板和支撑固定框与待整形掩膜板构成密闭腔，可控抽真空系统对密闭腔进行流量可控的抽真空，使得可控抽真空系统能够在初始阶段采用最大流量对密闭腔抽真空，并在密闭腔内接近目标真空时，以减小后较小的流量继续对密闭腔抽真空，避免真空过抽现象发生的同时，保证了密闭腔能够以较短的时间建立目标真空，进而实现了对待整形掩膜板的有效整形。

附图说明