[发明专利]矢量调制器移相器的装置和方法在审

专利信息
申请号: 202010494111.8 申请日: 2020-06-03
公开(公告)号: CN112039493A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: P·K·萨哈 申请(专利权)人: 美国亚德诺半导体公司
主分类号: H03H11/16 分类号: H03H11/16
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 刘倜
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 矢量 调制器 移相器 装置 方法
【说明书】:

提供矢量调制器移相器的装置和方法。在某些实施方案中,移相器包括:正交滤波器,对差分输入信号进行滤波以产生差分同向(I)电压和差分正交相(Q)电压;同向可变增益放大器(I‑VGA),放大差分I电压以产生差分I电流;正交相可变增益放大器(Q‑VGA),放大差分Q电压以产生差分Q电流;和电流模式组合器,组合差分I电流和差分Q电流以产生差分输出信号。差分输出信号和差分输入信号之间的相位差由I‑VGA和Q‑VGA的增益设置控制。

技术领域

发明的实施例涉及电子系统,尤其涉及移相器。

背景技术

移相器用于各种应用中,以控制电子信号(例如射频(RF)信号)的相位。使用移相器进行相位控制的示例应用包括超声、雷达、激光雷达和/或蜂窝通信。

在一个示例中,相控阵天线系统包括沿着RF信号路径到达天线阵列的移相器,从而提供了一种机制,用于控制RF信号的相位,该相位使用相长和相消干涉相结合以提供波束成形。

发明内容

提供矢量调制器移相器的装置和方法。在某些实施方案中,移相器包括:正交滤波器,对差分输入信号进行滤波以产生差分同向(I)电压和差分正交相(Q)电压;同向可变增益放大器(I-VGA),放大差分I电压以产生差分I电流;正交相可变增益放大器(Q-VGA),放大差分Q电压以产生差分Q电流;和电流模式组合器,组合差分I电流和差分Q电流以产生差分输出信号。差分输出信号和差分输入信号之间的相位差由I-VGA和Q-VGA的增益设置控制。因此,差分输入信号被分成I和Q分量,它们以适当的幅度缩放以重构具有期望相移的差分输出信号。通过在电流模式下使用求和将I和Q分量组合在一起,可以实现较宽的工作带宽。例如,使用电流模式组合可提高组合I和Q信号分量的准确性,和/或有助于减少输出端的寄生电容以提供宽带工作。还提供此类移相器的校准方案。

在一方面,提供具有宽带操作的移相器。移相器包括:正交滤波器,被配置为对输入信号进行滤波以产生同向(I)电压和正交相(Q)电压;第一可变增益放大器(VGA),被配置为放大I电压以产生I电流;第二VGA,被配置为放大Q电压以产生Q电流;和电流模式组合器,被配置为组合I电流和Q电流以产生输出信号。第一VGA的第一增益设置和第二VGA的第二增益设置可操作为控制输出信号和输入信号之间的相移。

在另一方面,提供一种相移方法。该方法包括:滤波输入信号以产生同向(I)电压和正交相(Q)电压,使用移相器的第一可变增益放大器(VGA)放大I电压以产生I电流,使用所述移相器的第二VGA放大Q电压以产生Q电流,使用所述移相器的电流模式组合器组合I电流和Q电流以产生输出信号,和通过控制第一VGA的第一增益设置和第二VGA的第二增益设置,控制所述输出信号和所述输入信号之间的相移。

在另一方面,提供一种用于控制有源扫描电子操纵阵列中的波束成形的前端系统。前端系统包括:放大器;和与所述放大器串联的移相器,并被配置为控制射频(RF)输入信号的相位。移相器包括:正交滤波器,被配置为滤波RF输入信号以产生同向(I)电压和正交相(Q)电压,第一可变增益放大器(VGA),被配置为基于第一增益设置放大I电压以产生I电流,第二VGA,被配置为基于第二增益设置放大Q电压以产生Q电流,和电流模式组合器,被配置为组合I电流和Q电流以产生RF输出信号。

附图说明

图1是包括移相器的相控阵天线系统的一个实施例的示意图。

图2A是包括移相器的前端系统的一个实施例的示意图。

图2B是包括移相器的前端系统的另一实施例的示意图。

图3A是根据一个实施例的移相器的示意图。

图3B是根据另一实施例的移相器的示意图。

图3C是用于移相器的可变增益放大器(VGA)的一个实施例的示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美国亚德诺半导体公司,未经美国亚德诺半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010494111.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top