[发明专利]一种逸出功的测量方法及装置

说明书

本发明公开了一种逸出功的测量方法及装置。所述逸出功的测量方法包括：分别获取波长为λ1、λ2……λn的同类单色光的光子数Np1、Np2……Npn；分别获取波长为λ1、λ2……λn的同类单色光作用于待测样品上后产生的光电子数Ne1、Ne2……Nen；根据所述光子数Np1、Np2……Npn以及所述光电子数Ne1、Ne2……Nen，获得所述待测样品的材料的逸出功；其中，n≥3，且n为正整数。本发明实施例提供的技术方案，实现了材料逃逸出功的低成本、低难度、高效率、高稳定性和高准确性的测量。

技术领域

本发明实施例涉及材料参数测量技术领域，尤其涉及一种逸出功的测量方法及装置。

背景技术

逸出功是材料特性的一个重要指标，直接关系到制作的器件性能，因此，准确测量材料的逸出功对于材料的合成和器件的制作有着重要的指导意义。目前测量逸出功的方法通常包括以下两种：1、紫外光电子能量普法；2、循环伏安法。其中，紫外光电子能量普法采用的设备造价高、使用成本高、操作专业性要求高且测试时间长，循环伏安法需要将材料配置成溶液后进行测量，测量过程的稳定性以及测量结果的准确性较差。

发明内容

本发明提供一种逸出功的测量方法及装置，以实现材料逃逸出功的低成本、低难度、高效率、高稳定性和高准确性的测量。

第一方面，本发明实施例提供了一种逸出功的测量方法，包括：

分别获取波长为λ1、λ2……λn的同类单色光的光子数Np1、Np2……Npn；

分别获取波长为λ1、λ2……λn的同类单色光作用于待测样品上后产生的光电子数Ne1、Ne2……Nen；

根据所述光子数Np1、Np2……Npn以及所述光电子数Ne1、Ne2……Nen，获得所述待测样品的材料的逸出功；

其中，n≥3，且n为正整数。

第二方面，本发明实施例还提供了一种逸出功的测量装置，包括：

光子数获取模块，用于分别获取波长为λ1、λ2……λn的同类单色光的光子数Np1、Np2……Npn；

光电子数获取模块，用于分别获取波长为λ1、λ2……λn的同类单色光作用于待测样品上后产生的光电子数Ne1、Ne2……Nen；

逸出功获得模块，用于根据所述光子数Np1、Np2……Npn以及所述光电子数Ne1、Ne2……Nen，获得所述待测样品的材料的逸出功；

其中，n≥3，且n为正整数。

本发明实施例提供的技术方案，通过分别获取波长为λ1、λ2……λn的同类单色光的光子数Np1、Np2……Npn，分别获取波长为λ1、λ2……λn的同类单色光作用于待测样品上后产生的光电子数Ne1、Ne2……Nen，根据光子数Np1、Np2……Npn以及光电子数Ne1、Ne2……Nen，获得待测样品的材料的逸出功，实现了材料逃逸出功的低成本、低难度、高效率、高稳定性和高准确性的测量。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1是本发明实施例提供的一种逸出功的测量方法的流程示意图；

图2是本发明实施例提供的一种获取波长为λi的单色光的光子数Npi的流程示意图；

图3是本发明实施例提供的一种获取波长为λi的单色光作用于待测样品上后产生的光电子数Nei的流程示意图；

图4是本发明实施例提供的一种根据光子数Np1、Np2……Npn以及光电子数Ne1、Ne2……Nen，获得待测样品的材料的逸出功的流程示意图；