[发明专利]发热元件及制备方法、加热不燃烧装置在审

专利信息
申请号: 202010499974.4 申请日: 2020-06-04
公开(公告)号: CN112369714A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 刘磊;洪俊杰;刘华臣;陈义坤;石秋香 申请(专利权)人: 湖北中烟工业有限责任公司
主分类号: A24F40/46 分类号: A24F40/46
代理公司: 北京市中伦律师事务所 11410 代理人: 杨黎峰
地址: 430040 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 发热 元件 制备 方法 加热 燃烧 装置
【权利要求书】:

1.一种发热元件,其特征在于,包括管状的本体层(102)、位于所述本体层(102)内表面上的内层(103)、位于所述本体层(102)外表面上的外层(101),所述本体层(102)具有发热电路,所述外层(101)的红外发射率小于所述内层(103)的红外发射率。

2.根据权利要求1所述的发热元件,其特征在于,所述内层(103)的红外发射率不小于0.9;所述外层(101)的红外发射率记为不大于0.6。

3.根据权利要求1所述的发热元件,其特征在于,所述内层(103)的材料包括:尖晶石、硅氧化物、金属氧化物、氮化物中的至少一项。

4.根据权利要求1所述的发热元件,其特征在于,所述外层(101)的材料包括:铜、铝、金、银、钛、锌中的至少一项。

5.根据权利要求1所述的发热元件,其特征在于,所述本体层(102)由导体形成,所述本体层(102)作为所述发热电路。

6.根据权利要求1所述的发热元件,其特征在于,所述本体层(102)包括:绝缘基质以及位于所述绝缘基质表面上的发热电路。

7.根据权利要求6所述的发热元件,其特征在于,所述本体层(102)还包括位于所述发热电路背向所述绝缘基质的保护层。

8.根据权利要求6所述的发热元件,其特征在于,所述绝缘基质的材料包括:玻璃、陶瓷、塑料和聚酰亚胺中的任一项。

9.根据权利要求1所述的发热元件,其特征在于,所述本体层(102)的厚度在0.01毫米至5毫米之间,所述内层(103)的厚度在5纳米至1000纳米之间,所述外层(101)的厚度在5纳米至1000纳米之间。

10.一种发热元件的制备方法,其特征在于,包括:

形成本体层(102)层,其中,所述本体层(102)层具有发热电路,所述本体层(102)层具有相对的第一表面和第二表面;

在所述第一表面上形成内层(103);

在所述第二表面上形成外层(101),其中,所述外层(101)的红外发射率小于所述内层(103)的红外发射率;

将所述本体层(102)层卷成管状结构,其中,所述内层(103)位于所述管状结构的内侧,所述外层(101)位于所述管状结构的外侧。

11.根据权利要求10所述的制备方法,其特征在于,所述形成本体层(102)层,包括:

形成绝缘基质层;

在所述绝缘基质层上形成发热电路;

在所述发热电路背向所述绝缘基质层一侧形成保护层。

12.根据权利要求10所述的制备方法,其特征在于,形成所述内层(103)的工艺和/或形成所述外层(101)的工艺包括:气相沉积、磁控溅射、热氧化、等离子气相沉积、化学镀、电镀、真空镀、涂布、印刷中的任一项。

13.一种发热元件的制备方法,其特征在于,包括:

形成管状的本体层(102),其中,所述本体层(102)具有发热电路,所述本体层(102)具有位于相对的内表面和外表面;

在所述内表面上形成内层(103);

在所述外表面上形成外层(101),其中,所述外层(101)的红外发射率小于所述内层(103)的红外发射率。

14.根据权利要求13所述的制备方法,其特征在于,形成所述内层(103)的工艺和/或形成所述外层(101)的工艺包括:气相沉积、磁控溅射、热氧化、等离子气相沉积、化学镀、电镀、真空镀、涂布、印刷中的任一项。

15.一种加热不燃烧装置,其特征在于,包括权利要求1-9任意一项所述的发热元件,所述内层(103)的内侧用于放置发烟材料。

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