[发明专利]液处理装置和液处理方法

权利要求书

1.一种液处理装置，其特征在于，

该液处理装置具备：

多个基板保持部，其分别保持基板；

第1喷嘴，其为了在保持于各所述基板保持部的基板之上的第1喷出位置向该基板喷出第1处理液而以各所述基板保持部为单位设置；

第2喷嘴，其相对于所述第1喷嘴独立地移动，在保持于各所述基板保持部的基板之上的第2喷出位置以迟于所述第1处理液的喷出的方式向该基板喷出涂敷膜形成用的第2处理液，该第2喷嘴被所述多个基板保持部共用；

第3喷嘴，其相对于所述第1喷嘴以及所述第2喷嘴独立地移动，为了在保持于各所述基板保持部的基板之上的第3喷出位置于未向所述基板进行所述第1处理液和所述第2处理液的供给时向所述基板喷出第3处理液而以各所述基板保持部为单位设置；

第1待机部、第2待机部和第3待机部，其使所述第1喷嘴、所述第2喷嘴、所述第3喷嘴分别于俯视时在所述基板由各基板保持部保持的保持区域的外侧待机；

回转机构，其使所述第1喷嘴于俯视时在所述第1待机部与所述第1喷出位置之间回转；以及

直动机构，其使所述第3喷嘴于俯视时在所述第3待机部与所述第3喷出位置之间直线移动。

2.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，

自所述第1喷嘴对所述基板供给稀释剂作为第1处理液，自所述第2喷嘴对所述基板供给在所述基板上形成膜的处理液作为所述第2处理液。

3.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，

所述第3喷嘴向所述基板的周缘部供给所述第3处理液。

4.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，

除了所述第1喷出位置和所述第2喷出位置设为在俯视时相互重叠的通用喷出位置的情况的该通用喷出位置之外，所述第1待机部与第1喷出位置之间的所述第1喷嘴在俯视时的第1移动轨迹、所述第2待机部与第2喷出位置之间的所述第2喷嘴在俯视时的第2移动轨迹、以及所述第3待机部与第3喷出位置之间的所述第3喷嘴在俯视时的第3移动轨迹互不重叠。

5.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，

该液处理装置具备：

照明，其与所述第2喷嘴一起移动，向该第2喷嘴照射光；以及

拍摄部，其与所述第2喷嘴一起移动，拍摄由所述照明照射了光的该第2喷嘴。

6.根据权利要求5所述的液处理装置，其特征在于，

所述照明以从互不相同的方向向所述第2喷嘴照射光的方式设置有多个。

7.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，

从所述第1喷嘴向所述基板喷出所述第1处理液的期间比从所述第2喷嘴向该基板喷出所述第2处理液的期间长。

8.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，

将保持于一个所述基板保持部的所述基板设为第1基板，将保持于另一所述基板保持部的所述基板设为第2基板，

将从所述第1喷嘴自所述第1待机部开始移动的时刻到所述第2喷嘴结束第2处理液的喷出的时刻设为连续处理，

该液处理装置设置有控制部，该控制部输出控制信号，以使对所述第1基板进行所述连续处理的期间与对所述第2基板进行所述连续处理的期间重叠。

9.根据权利要求8所述的液处理装置，其特征在于，

所述控制部在对所述第1基板进行的所述连续处理的执行过程中根据该连续处理结束的时刻决定开始对所述第2基板进行所述连续处理的时刻。

10.根据权利要求9所述的液处理装置，其特征在于，

所述控制部将所述第2基板处的从所述第1处理液的喷出结束到喷出所述第2处理液的间隔调整到所预先设定的范围内。

11.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，

在从所述第1喷嘴向所述基板喷出所述第1处理液的过程中，所述第2喷嘴在该基板之上待机。