[发明专利]一种OLED器件及其制备方法、双面显示面板

权利要求书

1.一种OLED器件，其特征在于，包括：

第一电极和第二电极，均为透明或半透明电极；

金属结构，设于所述第一电极和第二电极之间，且覆于所述第一电极上；

电子注入层，设于所述金属结构和所述第二电极之间，且覆于所述金属结构上。

2.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，

所述金属结构为金属纳米线，其厚度为

3.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，

所述金属结构为导电金属层，其为单层结构或多层结构，所述单层结构或多层结构均包括银、铝、铂、铜、钼、钛中的至少一种，其厚度为1.8-2.2nm。

4.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，还包括：

量子点发光层，设于所述电子注入层上；

空穴传输层，设于所述量子点发光层上；以及

空穴注入层，设于所述空穴传输层上。

5.根据权利要求4所述的OLED器件，其特征在于，

所述电子注入层的厚度为9.8-10.5nm；

所述量子点发光层的厚度为38-43nm；

所述空穴传输层的厚度为18-25nm；

所述空穴注入层的厚度为12-18nm。

6.一种OLED器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

形成一第一电极；

形成一金属结构于所述第一电极上；

形成一电子注入层于所述金属结构上；以及

形成一第二电极于所述电子注入层的上方。

7.根据权利要求6所述的OLED器件的制备方法，其特征在于，

所述形成一金属结构于所述第一电极上的步骤中，

采用喷墨打印的方式在所述第一电极上形成所述金属结构，所述金属结构为金属纳米线；或者，

采用蒸镀的方式在所述第一电极上形成所述金属结构，所述金属结构为导电金属层，其材质包括银、铝、铂、铜、钼、钛中的至少一种。

8.根据权利要求6所述的OLED器件的制备方法，其特征在于，

所述形成一电子注入层于所述金属结构上的步骤之后，还包括如下步骤：

形成一量子点发光层于所述电子注入层上；

形成一空穴传输层于所述量子点发光层上；以及

形成一空穴注入层于所述空穴传输层上；

其中，所述第二电极形成与所述空穴注入层上。

9.一种双面显示面板，包括如权利要求1-4任一项所述的OLED器件。

10.根据权利要求9所述的双面显示面板，其特征在于，还包括：

阵列基板，包括多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管为顶栅结构或者底栅结构，所述OLED器件设于所述阵列基板上；以及

像素定义层，设于所述阵列基板上，且具有多个间隔设置的像素单元，相邻的两个像素单元形成一凹槽，所述OLED器件设于所述凹槽内。