[发明专利]一种真空溅射镀膜机及其吸灰方法有效

专利信息
申请号: 202010507680.1 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN111575672B 公开(公告)日: 2022-09-23
发明(设计)人: 陆张武;於霄峰;徐勇军;李恭剑 申请(专利权)人: 浙江晶驰光电科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/35
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 张海兵
地址: 318001 浙江省台州市椒江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 溅射 镀膜 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种真空溅射镀膜机吸灰方法,其特征在于,采用一种包括镀膜腔室、搬送腔室、用于控制镀膜腔室和搬送腔室连通或隔离的开门阀的真空溅射镀膜机实现;所述镀膜腔室和搬送腔室处均设有吸灰基板;所述吸灰基板面朝腔室内侧面设有粘灰层;所述吸灰基板有多个,多个吸灰基板沿圆周方向围设于所述镀膜腔室,多个吸灰基板沿圆周方向围设于所述搬送腔室;所述粘灰层为胶带层;方法包括:

步骤S01,将搬送腔室抽气至小于压强阈值;

步骤S02,对镀膜腔室进行充气净化,使得镀膜腔室内污染物吸附在吸灰基板上;

步骤S03,在搬送腔室完成抽气和放气至多五次后,停止对搬送腔室抽气,打开开门阀,对连通的搬送腔室和镀膜腔室抽气一段时间并关闭开门阀;

步骤S04,对搬送腔室进行充气净化,使得搬送腔室内污染物吸附在吸灰基板上。

2.根据权利要求1所述的一种真空溅射镀膜机吸灰方法,其特征在于,步骤S02包括:在镀膜腔室的靶材和ICP附近充惰性气体或氮气,并对镀膜腔室进行抽气;以此往复,对镀膜腔室进行循环净化。

3.根据权利要求1所述的一种真空溅射镀膜机吸灰方法,其特征在于,所述步骤S03中搬送腔室完成抽气和放气至多五次,与步骤S02同时进行。

4.根据权利要求1所述的一种真空溅射镀膜机吸灰方法,其特征在于,步骤S04包括:在搬送腔室充惰性气体或氮气,并对搬送腔室进行抽气;以此往复,对搬送腔室进行循环净化。

5.一种真空溅射镀膜机吸灰方法,其特征在于,采用一种包括镀膜腔室、搬送腔室、用于控制镀膜腔室和搬送腔室连通或隔离的开门阀的真空溅射镀膜机实现;所述镀膜腔室处设有吸灰基板;所述吸灰基板面朝腔室内侧面设有粘灰层;所述吸灰基板有多个,多个吸灰基板沿圆周方向围设于所述镀膜腔室;所述粘灰层为胶带层;方法包括:对镀膜腔室进行充气净化,使得镀膜腔室内污染物吸附在吸灰基板上。

6.根据权利要求5所述的一种真空溅射镀膜机吸灰方法,其特征在于,方法还包括对搬送腔室进行开箱清洁。

7.根据权利要求6所述的一种真空溅射镀膜机吸灰方法,其特征在于,所述搬送腔室进行开箱清洁的步骤与镀膜腔室充气净化步骤同时进行。

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