[发明专利]一种真空溅射镀膜机及其吸灰方法

说明书

一种真空溅射镀膜机及其吸灰方法，属于镀膜技术领域。真空溅射镀膜机包括镀膜腔室PR‑CH、搬送腔室LL‑CH、开门阀；LL‑CH和PR‑CH处均设有吸灰基板，或者PR‑CH设有吸灰基板；吸灰基板面朝腔室内侧面设有粘灰层。当两个腔室均设有吸灰基板时；方法包括：将LL‑CH抽气至小于压强阈值；对PR‑CH进行充气净化，使得PR‑CH内污染物吸附在吸灰基板上；在LL‑CH完成抽气和放气后，停止对LL‑CH抽气，打开开门阀，对连通的LL‑CH和PR‑CH抽气一段时间并关闭开门阀；对LL‑CH进行充气净化，使得LL‑CH内污染物吸附在吸灰基板上。当镀膜腔室设有吸灰基板时，方法包括对PR‑CH进行充气净化，使得PR‑CH内污染物吸附在吸灰基板上。本发明在不开箱清洁的条件下，对腔体内部进行吸灰，吸灰完成后产品表面质量得到提高。

技术领域

本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种真空溅射镀膜机及其吸灰方法。

背景技术

真空溅射镀膜机长时间溅射镀膜后腔体污染严重，出现崩膜、碎片现象后，密集的颗粒悬浮在腔体内。现有做法是：开箱后拆除污染护板，打磨腔体，吸尘器吸除粉尘，之后安装新护板，抽真空、洗靶、镀膜。现有流程发现镀膜产品表面质量较差后，采取开箱清洁提高产品表面质量，但开箱至下次镀膜时间较长，降低设备效率。

发明专利申请CN201510391872.X公开了ITO薄膜溅射靶材的清洁方法，并具体公开了方法包括如下步骤：(1)先采用吸尘器将大颗粒物吸除干净；(2)采用相应目数的砂纸对靶材溅射面进行打磨，打磨方向顺应靶材溅射面形成有的跑道的方向，去除溅射面的氧化物和杂质；(3)采用吸尘器将靶材的溅射面上由于砂纸打磨而产生的颗粒物和灰尘吸除干净；(4)采用无尘布蘸取少量酒精对靶材的溅射面进行擦拭清洁，除去没有完全吸除的灰尘；(5)重复步骤(4)，直至无尘布表面只有轻微变色。该方法需要开箱操作，且每次清洁过程较长，影响设备镀膜效率。

发明内容

本发明针对现有技术存在的问题，提出了一种在不开箱清洁的条件下，对腔体内部进行吸灰的真空溅射镀膜机及其吸灰方法，清洁便捷，设备产能提高。

本发明是通过以下技术方案得以实现的：

本发明一种真空溅射镀膜机，包括镀膜腔室、搬送腔室、用于控制镀膜腔室和搬送腔室连通或隔离的开门阀；镀膜腔室和搬送腔室处均设有吸灰基板，或者镀膜腔室设有吸灰基板；所述吸灰基板面朝腔室内侧面设有粘灰层。

无需进行人工开箱清洁处理，在不开箱清洁的条件下，基于真空溅射镀膜机的工作特性，通过，通过公转盘旋转、各靶材气管放气以及腔体的压降差等性能，实现气体流动，使得腔内脏污吸附于粘灰层上。一实施方式包括在两个腔室设置吸灰基板，这样可对两个腔室进行吸灰清洁，可同时进行清洁工作，或者根据需要先后进行清洁工作。另一实施方式包括在一个腔室设置吸灰基板，主要考虑在镀膜腔室处设置吸灰基板，而对于搬送腔室而言，可以通过传统的清洁方式清洁，则不需设置吸灰基板。另外，本发明也可以在搬送腔室处单独设置吸灰基板进行清洁，由于颗粒物和灰尘主要集中在镀膜腔室内，则搬送腔室单独设置吸灰基板的必要性不是很大，但若有必要，本领域技术人员能够基于本发明公开的内容，想到在搬送腔室处单独设置吸灰基板。

作为优选，所述吸灰基板有多个，多个吸灰基板沿圆周方向围设于所述镀膜腔室，多个吸灰基板沿圆周方向围设于所述搬送腔室；或者，多个吸灰基板沿圆周方向围设于所述镀膜腔室。

作为优选，所述粘灰层为胶带层。

本发明还提出一种真空溅射镀膜机吸灰方法，采用上述真空溅射镀膜机实现；所述镀膜腔室和搬送腔室处均设有吸灰基板；方法包括：

步骤S01，将搬送腔室抽气至小于压强阈值；

步骤S02，对镀膜腔室进行充气净化，使得镀膜腔室内污染物吸附在吸灰基板上；