[发明专利]一种可回收的高阻隔复合薄膜

权利要求书

1.一种可回收的高阻隔复合薄膜，其特征在于：所述复合薄膜为“海岛”结构，所述复合薄膜中“海”占复合薄膜的重量比大于或等于90%，“岛”占复合薄膜的重量比小于或等于10%，这种趋于同质化的结构设计，可实现机械回收和循环再利用；

从复合薄膜的层结构来看，所述复合薄膜主要由基膜和阻隔涂层组成，其中，基膜又由基础层和相容层组成，所述相容层作为所述复合薄膜中连接的桥梁位于基础层与阻隔涂层之间，相容层通过偶联作用与阻隔涂层相连，通过相容作用与基础层相连；

在所述复合薄膜中，所述基础层为“海”，相容层和阻隔涂层为“岛”，其中，阻隔涂层占复合薄膜的重量比小于或等于5%；

从复合薄膜的制备工艺来看，所述基膜是通过多层共挤出双向拉伸或单向拉伸工艺制备而成，而阻隔涂层通过蒸镀工艺在基膜的一侧制备而成；

所述相容层为改性烯烃共聚物；

所述改性烯烃共聚物采用以下指定材料范围中的至少一种：乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、马来酸酐接枝共聚物和乙烯-乙烯醇共聚物；

所述阻隔涂层选择以下材料中的一种：铝、氧化铝、氧化硅；

所述基础层由聚烯烃或聚酯材料构成。

2.根据权利要求1所述的复合薄膜，其特征在于：所述聚烯烃包括聚乙烯或/和聚丙烯的均聚物、共聚物和混合物；

所述聚乙烯为低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯、中密度聚乙烯、高密度聚乙烯、茂金属聚乙烯；

所述聚丙烯为均聚聚丙烯、茂金属聚丙烯、多元共聚丙烯；

所述聚酯为结晶型聚对苯二甲酸乙二醇酯、非结晶型聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸环己二醇共聚物中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的复合薄膜，其特征在于：所述氧化铝为三氧化二铝；所述氧化硅为二氧化硅、六甲基二硅醚。

4.根据权利要求1所述的复合薄膜，其特征在于：所述蒸镀包括物理气相沉积和化学气相沉积，其中，物理气相沉积包括真空沉积、电子束沉积、离子镀、溅射、分子束外延和激光烧蚀；化学气相沉积包括热CVD、等离子体CVD、MOCVD、光辅助CVD、离子束混合和离子注入。

5.根据权利要求1所述的复合薄膜，其特征在于：所述基础层中可加入添加剂，所述添加剂包括稳定剂、成核剂、增塑剂、增韧改性剂、着色剂、分散剂、抗静电剂、发泡剂和抗菌剂；所述添加剂可以单独使用或组合使用，总量小于6000ppm。

6.根据权利要求1所述的复合薄膜，其特征在于：所述复合薄膜的厚度为8um-120um。

7.根据权利要求6所述的复合薄膜，其特征在于：采用铝作为阻隔涂层材料时，所述阻隔涂层厚度为20-60nm；采用氧化铝作为阻隔涂层材料时，所述阻隔涂层厚度为8-15nm；采用氧化硅作为阻隔涂层材料时，所述阻隔涂层厚度为10-30nm。

8.根据权利要求1所述的复合薄膜，其特征在于：在所述阻隔涂层上还可以设置保护层，所述保护层直接涂覆在阻隔涂层上；所述保护层可采用的材料包括：水性聚氨酯、水性聚酯、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇。

9.根据权利要求8所述的复合薄膜，其特征在于：所述保护层的厚度为0.1-10um。

10.根据权利要求9所述的复合薄膜，其特征在于：所述保护层的制备方法有气刀涂层、辊涂、凹版涂层。