[发明专利]原位生成氮化铝-碳化硅固溶体复相陶瓷及其制备方法在审
申请号: | 202010515748.0 | 申请日: | 2020-06-09 |
公开(公告)号: | CN111704465A | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 余超;郑永翔;邓承继;丁军;祝洪喜;吴欣欣 | 申请(专利权)人: | 武汉科技大学 |
主分类号: | C04B35/565 | 分类号: | C04B35/565;C04B35/581;C04B35/622 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 张火春 |
地址: | 430081 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 原位 生成 氮化 碳化硅 固溶体 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
一种原位生成氮化铝‑碳化硅固溶体复相陶瓷及其制备方法。其技术方案是:将Al4SiC4粉末和粘结剂混合,在5~50MP条件下预压成型,于100~300MPa条件下等静压成型,在110℃烘干,得到预制坯体。将预制坯体装入石墨坩埚内,然后将所述石墨坩埚置于热压炉内,在≤0.1mbar条件下以5~10℃/min的速率从室温加热至1100~1200℃,在保温条件下充N2至2~10MPa,保压条件下以1~5℃/min的速率再加热至1900~2200℃,保压保温2~5h,自然冷却至室温,即得原位生成氮化铝‑碳化硅固溶体复相陶瓷。本发明工艺简单和操作方便,制备的原位生成氮化铝‑碳化硅固溶体复相陶瓷的密度低、质量轻、结构均匀致密、耐高温、抗氧化性能、抗水化性和强度高。
技术领域
本发明属于氮化铝-碳化硅固溶体复相陶瓷技术领域。具体涉及一种原位生成氮化铝-碳化硅固溶体复相陶瓷及其制备方法。
背景技术
AlN材料热导率高、电绝缘性好、强度大、硬度高、耐腐蚀、耐磨损和热膨胀系数低的良好的性能,在半导体材料、微波电子衰减材料及耐火材料等领域得到广泛应用。SiC热膨胀系数小、硬度高、机械强度大、抗化学腐蚀、耐磨性优良和化学性能稳定,被广泛应用于高温陶瓷、航空航天等许多领域。氮化铝和碳化硅虽是性能优异的陶瓷材料,但其本身也存在一些固有的缺点和局限性,在一定程度上限制了它们的发展和应用。目前制备复合材料是提高材料性能的一种有效途径,而AlN和α-SiC在原子尺寸、分子量、晶体结构、密度以及高温性能上均具有相似性,所以能够在较大的化学组成区域形成固溶体,两者之间具有在非氧化物陶瓷中极为罕见的强共价键,进一步增加了二者复合的可能性,有望改善两者固有缺点,提高材料的性能。
为了获得高性能的AlN/SiC固溶体复相陶瓷,国内外学者采用不同的技术路线和方法,如Wei等人(Wei W C J,Lee R R.Pressureless sintering of AlN-SiC composites[J].Journal ofMaterials Science,1991,26(11):2930-2936)采用无压烧结的方法制得AlN-SiC复合材料,发现添加烧结助剂Y2O3比CaO和Al2O3能更好地促进烧结体的致密化;且由于α-SiC与AlN结构相似,晶格常数相差极小,所以它比β-SiC能更好地与AlN致密结合并形成固溶体。谭寿洪等人(谭寿洪,岳勇.SiC-AlN固溶体的XRD和NMR研究[J].硅酸盐学报,1997,(3):345-349)同样采用无压烧结的方法,以6H-SiC为原料掺入少量A1N,在Ar气氛下于2050℃无压烧结制得了单相4H型SiC-AlN固溶体。Ruh等人(Ruh R,ZangvilA.Composition and properties of hot-pressed SiC-AIN solidsolutions[J].Journalof the American Ceramic Society,2010,65(5):260-265)采用热压烧结的方法,以β-SiC和AlN为原料在Ar气氛下于2100℃烧结,当AlN含量范围是35~100wt%时,合成了2H型固溶体。
上述方法制备AlN/SiC固溶体复相陶瓷,常采用多种原料机械混合后进行高温烧结,复相陶瓷内物相的分散性及均匀性不易控制,导致材料性能调控困难,同时长时间球磨AlN也会导致其水解,从而改变材料的化学组分,导致材料性能的降低。
另外,“一种AlN-SiC固溶体晶须及其制备方法”(CN 201710875873.0)同样采用单一的三元碳化物Al4SiC4为原料制得AlN/SiC固溶体晶须,但是对于块状致密试样,晶须仅在试样表面生成,其试样内部是否完全反应生成AlN/SiC固溶体,该专利技术并未说明。
发明内容
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