[发明专利]显示装置及显示装置的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010517377.X 申请日: 2020-06-09
公开(公告)号: CN111725272B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 曹祖强;戴超 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 徐世俊
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种显示装置,其特征在于,包括:

衬底基板;

功能层,设置于所述衬底基板上,所述功能层还包括一开孔区,所述开孔区的内壁面开设有多条沟槽,不同所述沟槽之间彼此平行;及

金属走线,沿着所述开孔区的所述内壁面延伸,且至少部分所述金属走线贴设于所述沟槽内壁面上,所述沟槽与所述金属走线一一对应。

2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述沟槽的深度大于所述金属走线的高度,所述沟槽的宽度大于所述金属走线的宽度。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述沟槽包括至少一个第一平台段和连接所述第一平台段的第一坡面段。

4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述开孔区的内壁面包括底面和侧壁面,所述第一平台段开设于所述开孔区的底面,所述第一坡面段开设于所述开孔区的侧壁面上。

5.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述第一平台段与所述第一坡面段形成的坡角为第一坡角,所述底面与所述侧壁面形成第二坡角,所述第一坡角与所述第二坡角相等。

6.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,当所述开孔区的侧壁面包括至少一个第二平台段和连接所述第二平台段与所述底面的第二坡面段时,所述沟槽覆盖所述第二坡面段且不超出所述第二平台段。

7.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述功能层包括水氧阻隔层、缓冲层、第一栅极绝缘层、第二栅极绝缘层和层间介质层的至少一层。

8.一种显示装置的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供一衬底基板,在所述衬底基板上制备功能层;

在所述功能层远离所述衬底基板的一侧表面挖孔形成开孔区;

在所述开孔区的内壁面开设多道沟槽,不同所述沟槽之间彼此平行;

沿着所述开孔区的所述内壁面制备金属走线,且至少部分所述金属走线贴设于所述沟槽内壁面上,所述沟槽与所述金属走线一一对应。

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