[发明专利]显示装置及显示装置的制备方法有效
申请号: | 202010517377.X | 申请日: | 2020-06-09 |
公开(公告)号: | CN111725272B | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 曹祖强;戴超 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 徐世俊 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 制备 方法 | ||
1.一种显示装置,其特征在于,包括:
衬底基板;
功能层,设置于所述衬底基板上,所述功能层还包括一开孔区,所述开孔区的内壁面开设有多条沟槽,不同所述沟槽之间彼此平行;及
金属走线,沿着所述开孔区的所述内壁面延伸,且至少部分所述金属走线贴设于所述沟槽内壁面上,所述沟槽与所述金属走线一一对应。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述沟槽的深度大于所述金属走线的高度,所述沟槽的宽度大于所述金属走线的宽度。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述沟槽包括至少一个第一平台段和连接所述第一平台段的第一坡面段。
4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,所述开孔区的内壁面包括底面和侧壁面,所述第一平台段开设于所述开孔区的底面,所述第一坡面段开设于所述开孔区的侧壁面上。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,所述第一平台段与所述第一坡面段形成的坡角为第一坡角,所述底面与所述侧壁面形成第二坡角,所述第一坡角与所述第二坡角相等。
6.根据权利要求4所述的显示装置,其特征在于,当所述开孔区的侧壁面包括至少一个第二平台段和连接所述第二平台段与所述底面的第二坡面段时,所述沟槽覆盖所述第二坡面段且不超出所述第二平台段。
7.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述功能层包括水氧阻隔层、缓冲层、第一栅极绝缘层、第二栅极绝缘层和层间介质层的至少一层。
8.一种显示装置的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供一衬底基板,在所述衬底基板上制备功能层;
在所述功能层远离所述衬底基板的一侧表面挖孔形成开孔区;
在所述开孔区的内壁面开设多道沟槽,不同所述沟槽之间彼此平行;
沿着所述开孔区的所述内壁面制备金属走线,且至少部分所述金属走线贴设于所述沟槽内壁面上,所述沟槽与所述金属走线一一对应。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010517377.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的